[发明专利]供应射频(RF)等离子体产生器及远程等离子体产生器的RF信号源

权利要求书

1.一种多信号射频(RF)源，其包含：

RF源；以及

转换器，其包含与所述RF源的输出连通的输入、第一输出和第二输出，其中所述转换器被设置成将所述输入选择性连接至所述第一输出和所述第二输出中的一者；

RF产生器，其与所述多信号RF源的所述第一输出连通，且被设置成产生等离子体；以及

远程等离子体产生器，其与所述多信号RF源的所述第二输出连通，且被设置成供应远程等离子体。

2.根据权利要求1所述的多信号RF源，其中：

所述多信号RF源还包含滤波器，所述滤波器与所述第一输出连接并且不与所述第二输出连接；以及

所述RF产生器被连接至所述滤波器。

3.根据权利要求2所述的多信号RF源，其中所述RF源供应周期信号。

4.根据权利要求2所述的多信号RF源，其中所述滤波器使所述RF源的所述输出的基频通过。

5.根据权利要求2所述的多信号RF源，其中所述滤波器使所述RF源的所述输出的至少一个谐波通过并且阻止所述RF源的所述输出的另一谐波。

6.根据权利要求1所述的多信号RF源，其还包含控制器，所述控制器被设置成控制所述RF产生器、所述远程等离子体产生器以及所述转换器。

7.根据权利要求6所述的多信号RF源，其中所述控制器被设置成：

将所述转换器的状态设定为第一状态和第二状态中的一者；

当所述第一转换器在所述第一状态时，使所述转换器连接所述RF源至所述第一输出且不将所述RF源连接至所述第二输出；以及

当所述第一转换器在所述第二状态时，使所述转换器将所述RF源切换连接至所述第二输出且不将所述RF源连接至所述第一输出。

8.一种衬底处理系统，其包含：

根据权利要求1所述的多信号射频(RF)源，

处理室；以及

气体输送系统，其被设置成选择性供应第一气体混合物至所述处理室，以及供应第二气体混合物至所述远程等离子体产生器。

9.一种供应射频(RF)功率的方法，其包含：

提供RF源和转换器，所述转换器包含与所述RF源的输出连通的输入、第一输出和第二输出；

将被设置成在所述处理室中产生等离子体的RF产生器连接至所述多信号RF源的所述第一输出；

将被设置成供应远程等离子体以清洁所述处理室的远程等离子体产生器连接至所述多信号RF源的所述第二输出；以及

使用所述转换器将所述输入选择性连接至所述第一输出和所述第二输出中的一者。

10.根据权利要求9所述的方法，其还包含：

供应第一气体混合物至所述处理室；以及

供应第二气体混合物至所述远程等离子体产生器。

11.根据权利要求9所述的方法，其还包含将滤波器设置于所述转换器的所述第一输出和所述RF产生器之间。

12.根据权利要求3所述的方法，其还包含使用所述RF源供应周期信号。

13.根据权利要求12所述的方法，其还包含使用所述滤波器，使所述RF源所述输出的基频通过。

14.根据权利要求12所述的方法，其还包含使用所述滤波器，使所述RF源的所述输出的至少一个谐波通过以及阻止所述RF源的所述输出的另一谐波。