[发明专利]液体过滤器用基材在审

专利信息
申请号: 201980047926.7 申请日: 2019-07-23
公开(公告)号: CN112437695A 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 岩井亚由美;古谷幸治;长尾优;几田良和 申请(专利权)人: 帝人株式会社
主分类号: B01D71/26 分类号: B01D71/26;B01D69/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;焦成美
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 液体 过滤 器用 基材
【说明书】:

本公开提供液体过滤器用基材,其是由聚烯烃微多孔膜形成的液体过滤器用基材,基于气相/液相置换的利用半干法测得的上述聚烯烃微多孔膜的孔径分布中,平均流量孔径为1nm以上且50nm以下,上述聚烯烃微多孔膜中的钙的含量为2000ppb以下,上述聚烯烃微多孔膜的长度方向(MD)的拉伸伸长率与同该长度方向正交的宽度方向(TD)的拉伸伸长率之比(MD/TD拉伸伸长率比)为0.47以上且小于0.96、或者超过1.25且为7以下。

技术领域

本公开涉及液体过滤器用基材。

背景技术

近年来,电子设备的小型化及高性能化日益进展。尤其是以个人计算机及智能手机为代表的数码设备及移动终端正在实现飞跃性的进步。众所周知,在引导、支持该进步的各种各样的技术中,半导体产业的技术革新发挥了重大作用。在近年来的半导体产业中,就布线图案尺寸而言,已呈现为在小于20nm的领域进行开发竞争的态势,各公司正急于建立最先进的生产线。

光刻工序是在半导体部件制造中形成图案的工序。随着近年来的图案微细化,不仅对光刻工序中使用的化学药液本身的性状,而且对包括向晶片上涂布在内的化学药液的操作也逐渐要求非常高水平的技术。

对于经复杂制备而得到的化学药液,在即将要涂布于晶片上之前用细密的过滤器对其进行过滤,从而除去对图案形成及成品率产生较大影响的颗粒。在最先进的小于20nm的图案形成中,要求能够捕集小于约10nm的颗粒。各过滤器制造公司正在大力进行开发。

一般而言,液体过滤器以由聚乙烯、聚四氟乙烯、尼龙、聚丙烯等树脂形成的多孔质膜为基材,加工成筒状物来使用。从与化学药液的相容性、捕集性能、处理能力、寿命等观点考虑,基材根据目标用途而被区分使用。最近,特别重视使来自基材的溶出物减少,即使是原本溶出就少的聚乙烯微多孔膜,也要求进一步减少溶出物。

作为聚乙烯微多孔膜的代表性制造方法,可举出相分离法及拉伸法。相分离法是利用高分子溶液的相分离现象来形成细孔的技术,例如包括日本特开平2-251545号公报中记载的这样的利用热来诱导相分离的热诱导相分离法、利用高分子在溶剂中的溶解度特性的非溶剂诱导相分离法等。另外,也可以将热诱导相分离法和非溶剂诱导相分离法这两种技术组合,进一步通过拉伸来调节孔结构的形状及大小,从而丰富其变化。例如如日本特开2010-053245号公报、日本特开2010-202828号公报、日本特开平7-246322号公报、日本特开平10-263374号公报、国际公开第2014/181760号及日本特开2011-233542号公报中记载的那样,拉伸法为下述方法:对已成型为片状的聚乙烯坯料片进行拉伸,调节速度、倍率、温度等拉伸条件,将晶体结构中的非晶质部分拉长,在形成微纤维的同时在片状层之间形成微细孔。

然而,在日本特开平2-251545号公报、日本特开2010-053245号公报、日本特开2010-202828号公报、日本特开平7-246322号公报、日本特开平10-263374号公报及国际公开第2014/181760号中记载的这样的现有技术中,以含有大量来自聚合催化剂及添加剂的金属的聚乙烯进行制造,并且因膜的小孔径化的发展使得与液体的接触面积变得非常高,因此来自基材的金属离子溶出量变得非常高。而且,在使用该基材来制造液体滤筒时,基材清洗需要非常多的时间和水等溶剂,因此期望清洗工序的效率化。特别是如国际公开第2014/181760号这样,在同时实现对小于约10nm的微细颗粒的捕集性能和液体透过性的方面,解决作为半导体的精密过滤器的重要课题,但由于是具有更微细的孔径的膜,因此在制造上述滤筒时,对效率化的需求高。另外,日本特开2011-233542号公报中虽然提到了金属离子的含量,但其是用于电池隔膜的聚烯烃微多孔膜,对于半导体的精密过滤器并没有任何考虑、设计。

发明内容

发明要解决的课题

因此,为了解决上述的课题,本公开的目的在于提供兼具高的液体透过性和高的微小粒子捕集性这两者、并且能够提高滤筒的制造效率的液体过滤器用基材。

用于解决课题的手段

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