[发明专利]光学系统及其制造过程

权利要求书

1.一种制造光学系统(5)的方法，所述光学系统包括层(24)，所述层包含贯通的或部分贯通的孔(26)并被微米级光学元件阵列(14)覆盖，所述光学系统包括旨在接收第一辐射(42、54)的表面(22)，所述方法包括：

穿过所述微米级光学元件阵列(14)使具有与所述层相同的材料或不同的材料的膜暴露于第二辐射(70)，所述材料对所述第二辐射光敏感或能够通过所述第二辐射加工，在所述暴露步骤中，使得所述微米级光学元件阵列(14)临时接触具有不同于所述微米级光学元件的折射率的、不同于空气的材料；以及

去除所述膜的暴露于或未暴露于所述第二辐射的部分(72)以界定完全或部分地穿过所述层的孔(26)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述膜由对所述第二辐射(70)光敏感的抗蚀剂制成。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述层(24)由对所述第二辐射正性光敏感的抗蚀剂制成，所述膜的去除部分(72)是暴露于所述第二辐射的部分。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述膜由对所述第二辐射负性光敏感的抗蚀剂制成，所述膜的去除部分(72)是未暴露于所述第二辐射的部分。

5.根据权利要求1所述的方法，包括通过激光束加工所述层(24)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述光学系统(5)形成角度滤光器，所述角度滤光器被配置为阻挡相对于与所述表面(22)正交的方向的入射在至少一个第一入射范围内的所述第一辐射(42)的光线，以及允许相对于与所述表面正交的方向的入射在不同于所述至少一个第一入射范围的至少一个第二入射范围内的所述第一辐射的光线通过。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述第一辐射(42、54)不同于所述第二辐射(70)。

8.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其中所述第一辐射(42、54)在可见光范围内和/或在红外光范围内。

9.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其中所述第二辐射(70)在可见光范围内和/或在紫外光范围内。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述光学系统(5)的制造是卷对卷执行的。

11.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，包括：在形成所述孔(26)之后，用粘合材料填充所述孔，以及经由粘合材料将包括所述孔的所述层(24)固定到装置(44)上。

12.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述第二辐射(70)被准直。

13.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述第二辐射(70)具有大于1°的发散角。