[发明专利]图案化波长选择性膜

权利要求书

1.一种用于制备图案化波长选择性膜的方法，所述方法包括：

提供基底；

提供波长选择性膜；

在所述基底和所述波长选择性膜之间施加呈图案的粘合剂；

在所述粘合剂处使所述波长选择性膜的一部分断裂，以在所述基底上形成所述波长选择性膜的图案化部分。

2.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括：

将透明层施加到所述基底。

3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述波长选择性膜的所述图案化部分位于所述透明层与所述基底之间。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底为施加到回射膜的透明层。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底为承载膜，并且其中所述方法还包括将所述粘合剂从所述承载膜转移到第二基底。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述波长选择性膜在红外或近红外光谱中反射、吸收或散射。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述波长选择性膜包括转移层叠堆，所述转移层叠堆包括：

包含金属层或掺杂半导体层的剥离层；

覆盖所述剥离层的丙烯酸酯层；

覆盖所述丙烯酸酯层的波长选择性层；

其中所述丙烯酸酯层与所述金属层或掺杂半导体层之间的剥离值为2克/英寸至50克/英寸。

8.一种图案化波长选择性膜，所述图案化波长选择性膜包括：

基底；

在所述基底的第一区域处的粘合剂；

波长选择性膜，所述波长选择性膜包括两个相反表面，第一表面在所述粘合剂上；

在所述波长选择性膜的第二表面上对齐的丙烯酸酯层。

9.根据权利要求8所述的图案化波长选择性膜，其中所述基底为施加到回射膜的透明层。

10.根据权利要求8至9中任一项所述的图案化波长选择性膜，其中所述波长选择性膜的图案化部分位于所述透明层与所述回射膜之间。

11.根据权利要求8至10中任一项所述的图案化波长选择性膜，所述图案化波长选择性膜还包括包围图案化粘合剂和波长选择性膜的封装粘合剂。

12.根据权利要求8至11中的一项所述的图案化波长选择性膜，其中所述基底为回射膜。

13.根据权利要求8至12中任一项所述的图案化波长选择性膜，其中所述波长选择性膜在可见光谱中是透明的。

14.根据权利要求8至13中任一项所述的图案化波长选择性膜，其中所述波长选择性膜在红外或近红外光谱中反射、吸收或散射。

15.根据权利要求8至14中任一项所述的图案化波长选择性膜，其中所述图案化粘合剂呈独特图案。