[发明专利]滤波器组件、检测器和滤波器组件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201980049116.5 申请日: 2019-07-26
公开(公告)号: CN112867911A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 格哈德·艾尔姆施泰纳;德西斯拉娃·奥佩尔;黛博拉·莫尔克罗夫特;延斯·霍弗里希特 申请(专利权)人: AMS有限公司
主分类号: G01J1/04 分类号: G01J1/04;G01J3/12;G01J3/51;G01J3/02;G01T1/20;G02B5/28
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 侯丽英;刘继富
地址: 奥地利普*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 滤波器 组件 检测器 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种滤波器组件,包括入射介质(10)、间隔件(30)、至少一个电介质滤波器(50)和出射介质(70),其中:

-所述间隔件(30)被设置在所述入射介质(10)与所述至少一个电介质滤波器(50)之间,使得所述入射介质(10)和所述至少一个电介质滤波器(50)被间隔开工作距离(32),并由此包围折射率低于所述入射介质(10)的介质,并且

-所述至少一个电介质滤波器(50)被设置在所述出射介质(70)上。

2.根据权利要求1所述的滤波器组件,其中,所述间隔件(30)被设置为限制在改变入射角的情况下入射的光的光谱移位。

3.根据权利要求1或2所述的滤波器组件,其中,

-放置在与所述入射介质相距所述工作距离(32)内的电介质滤波器(50)具有透射特性,

-所述工作距离(32)被设置为使得在改变入射角的情况下,所述电介质滤波器(50)的透射特性的光谱移位保持在给定的限度内。

4.根据权利要求2或3所述的滤波器组件,其中,在小于±30°、±20°、±10°等的间隔的入射角下,所述光谱移位保持恒定或者在±1nm、±2nm、±5nm等内。

5.根据权利要求1至4之一所述的滤波器组件,其中,

-所述入射介质(10)、较低折射率的介质和所述电介质滤波器(50)形成具有平均折射率的混合叠层,

-所述平均折射率取决于所述间隔件(30)和所述工作距离(32),并且

-所述电介质滤波器(50)的光谱特性取决于所述平均折射率。

6.根据权利要求1至5之一所述的滤波器组件,其中,所述入射介质(10)被设置为改变入射辐射,使得经改变的辐射以漫射辐射分布离开所述入射介质。

7.根据权利要求1至6之一所述的滤波器组件,其中,

-所述入射介质(10)、所述间隔件(30)和所述至少一个电介质滤波器(50)包围腔(31),并且

-所述腔(31)包括折射率低于所述入射介质的介质。

8.根据权利要求1至7之一所述的滤波器组件,其中,所述入射介质(10)的折射率大于1。

9.根据权利要求1至8之一所述的滤波器组件,其中,

-所述工作距离(32)的值为0.25μm至10μm,以及/或者

-所述工作距离(32)的值为至少2μm。

10.根据权利要求9所述的滤波器组件,其中,

-所述腔(31)对周围环境是开放的,

-所述腔(31)是开放的、填充有环境空气,并且所述工作距离(32)的值为至少2μm,或者

-所述腔(31)对周围环境是封闭的。

11.根据权利要求1至10之一所述的滤波器组件,其中,所述间隔件(30)设置在所述至少一个电介质滤波器(50)的一个边缘、多个边缘或框架处。

12.根据权利要求1至11之一所述的滤波器组件,其中,所述间隔件(30)包括:

-图案化的粘合剂,

-图案化的光学粘合剂,和/或

-金属层。

13.根据权利要求1至12之一所述的滤波器组件,其中,所述出射介质(70)包括用于电磁辐射的检测器的至少一个有源表面。

14.根据权利要求1至13之一所述的滤波器组件,其中:

-所述至少一个电介质滤波器(50)包括滤波器元件,并且

-所述滤波器元件具有不同的透射特性。

15.根据权利要求14所述的滤波器组件,其中,所述滤波器元件被设置用于双色、多色、明视和/或明视应用。

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