[发明专利]辐射源和用于将发射的辐射反馈到激光源的装置

权利要求书

1.一种用于投射曝光系统(1)或计量系统的辐射源(4)，包括：

1.1.自由电子激光器(FEL)(35)，其发射具有至多30nm的波长的照明辐射，以及

1.2.用于将发射的照明辐射(5)反馈到激光源(35)的装置(36)，包括：

1.2.1.用于从束路径耦合出照明辐射(5)的至少一个光学部件(M1)，和

1.2.2.用于将所耦合出的照明辐射(5)的至少一部分耦合到所述激光源(35)中的至少一个光学部件，

1.3.其中，所述用于从所述束路径耦合出照明辐射(5)的至少一个光学部件包括衍射光学元件(41)。

2.根据权利要求1所述的辐射源(4)，其特征在于，所述用于从所述束路径耦合出照明辐射(5)的至少一个光学部件和/或用于将照明辐射(5)耦合到所述激光源(35)中的至少一个光学部件在各个情况下包括掠入射反射镜(M1、M4)——GI反射镜。

3.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(4)，其特征在于，所述衍射光学元件(41)实施为可驱动的。

4.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(4)，其特征在于，所述衍射光学元件(41)具有垂直于所述束方向的线。

5.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(4)，其特征在于，所述衍射光学元件(41)具有平行于所述束方向的线。

6.根据权利要求2所述的辐射源(4)，其特征在于，所述掠入射反射镜(M1、M4)中的至少一个由碳化硅(SiC)、硅(Si)、铜(Cu)、钌(Ru)、铝(A1)或金刚石或这些物质的成分或其化合物或合金制成。

7.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(4)，其特征在于，具有所述衍射光学元件(41)的至少一个光学部件包括冷却单元。

8.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(4)，其特征在于，所述辐射源包括两个掠入射反射镜(M1、M4)和两个法线入射反射镜(M2、M3)。

9.一种用于将发射的照明辐射(5)反馈到激光源(35)的装置(36)，包括：

9.1.用于从束路径中耦合出照明辐射(5)的至少一个光学部件(M1)，以及

9.2.用于将所耦合出的照明辐射(5)的至少一部分耦合到所述激光源(35)中的至少一个光学部件，

9.3.其中，所述用于从所述束路径耦合出照明辐射(5)的至少一个光学部件包括衍射光学元件(41)。

10.一种用于操作自由电子激光器(FEL)的方法，包括以下步骤：

10.1.提供根据权利要求1至8中任一项所述的辐射源(4)，

10.2.通过所述自由电子激光器(35)生成照明辐射(5)，

10.3.从所述束路径耦合出由所述自由电子激光器(35)生成的所述照明辐射(5)的一部分，

10.4.将所耦合出的照明辐射(5)的至少一部分再次耦合到所述自由电子激光器(35)中。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，设置的是驱动所述衍射光学元件(41)以用于控制被引导到像场(23e)的照明辐射(5)。

12.一种用于投射曝光系统(1)或计量系统的照明系统(19)，包括根据权利要求1至8中任一项所述的辐射源(4)。

13.一种微光刻投射曝光系统(1)，包括：

13.1.根据权利要求12所述的照明系统(19)，以及

13.2.用于将物场(11i)成像到像场(23i)中的至少一个投射光学单元(14i)。

14.一种计量系统，包括如权利要求12所述的照明系统(19)。