[发明专利]用于确定微光刻光学系统的光学元件的加热状态的方法和装置

权利要求书

1.一种用于确定微光刻光学系统中的光学元件的加热状态的方法，其中使用至少一个非接触传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)，所述至少一个非接触传感器是基于从所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)接收电磁辐射，其中，由所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)捕获的辐射范围变化，以达到确定所述光学元件中的温度分布的目的。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述变化实现关于从所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)发出的所述电磁辐射对该元件的区域感测。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述变化使用位于所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)与所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)之间的束成形光学单元来实现。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述束成形光学单元包括变焦轴锥系统(210、310)。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述变化包括所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)与所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)之间的相对位置的操纵。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)在面向所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)的一侧具有至少一个切口或凹部和/或至少一个升高结构。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，高温计用作传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)是反射镜。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述光学元件被设计为用于小于30nm、特别地小于15nm的操作波长。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，基于所述加热状态的确定，存在所述光学元件的预加热，以用于至少部分地补偿所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)的加热状态的随时间的变化，该变化发生在所述光学系统的操作期间和/或在所述光学系统中由所述加热状态引起的光学像差的补偿期间。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在所述光学系统的操作期间确定所述加热状态。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述光学系统是微光刻投射曝光设备。

13.一种用于确定微光刻光学系统中的光学元件的加热状态的设备，包括：

·至少一个非接触传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)，所述至少一个非接触传感器基于从所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)接收电磁辐射；以及

·用于改变由所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)捕获的辐射范围的装置。

14.根据权利要求13所述的设备，其特征在于，所述设备被配置为实行根据权利要求1至12中的任一项所述的方法。