[发明专利]具有被动再生污垢去除序列的电化学工艺

权利要求书

1.一种操作电化学分离装置的方法，所述电化学分离装置包括稀释隔室、浓缩隔室、定位在所述稀释隔室和所述浓缩隔室之间的离子交换膜、以及第一电极和第二电极，所述方法包括：

以主动模式操作所述电化学分离装置，直到所述电化学分离装置中的电阻达到第一预定阈值，所述主动模式包括：

在所述第一电极和所述第二电极之间传输电流；

将第一进料流引导至所述稀释隔室以产生产物流；以及

将第二进料流引导至所述浓缩隔室以产生废弃物流；以及

以被动模式使所述电化学分离装置再生，直到所述电阻达到低于所述第一预定阈值的第二预定阈值，所述被动模式包括以所述主动模式暂停所述电化学分离装置的操作；以及

以所述主动模式恢复所述电化学分离装置的操作，直到所述电阻达到大于所述第二预定阈值的第三预定阈值。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括确定所述电化学分离装置中的所述电阻。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述第一预定阈值比起动电阻大至少10欧姆。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述第二预定阈值比所述第一预定阈值小至少约10欧姆。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述电阻是平均电阻，所述方法还包括确定所述电化学分离装置中的所述平均电阻。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第一预定阈值比起动电阻大至少约10欧姆/天。

7.根据权利要求5所述的方法，其中所述第二预定阈值比所述第一预定阈值小至少约10欧姆/天。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第三预定阈值不等于所述第一预定阈值。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述第三预定阈值大于所述第一预定阈值。

10.根据权利要求1所述的方法，还包括使所述第一电极的极性和所述第二电极的极性反转。

11.根据权利要求1所述的方法，还包括对所述电化学分离装置进行化学清洗。

12.一种操作电化学分离装置的方法，所述电化学分离装置包括稀释隔室、浓缩隔室、定位在所述稀释隔室和所述浓缩隔室之间的离子交换膜、以及第一电极和第二电极，所述方法包括：

以主动模式操作所述电化学分离装置持续第一时间段，包括：

在所述第一电极和所述第二电极之间传输电流；

将第一进料流引导至所述稀释隔室以产生产物流；以及

将第二进料流引导至所述浓缩隔室以产生废弃物流；以及

以被动模式使所述电化学分离装置再生持续第二时间段，包括以所述主动模式暂停所述电化学分离装置的操作；以及

以所述主动模式恢复所述电化学分离装置的操作持续第三时间段。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述第一时间段足以将所述电化学分离装置中的电阻增加至阈值电阻。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述阈值电阻比基线电阻大至少约10欧姆。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述第一时间段在约12小时和约48小时之间。

16.根据权利要求12所述的方法，其中所述第二时间段足以将所述电化学分离装置中的电阻降低至基线电阻。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述基线电阻由从起动电阻随时间逐渐线性增加来界定。