[发明专利]氧化物超导线材及其制造方法在审
| 申请号： | 201980049207.9 | 申请日： | 2019-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112469668A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 平田涉;藤田真司 | 申请（专利权）人： | 株式会社藤仓 |
| 主分类号： | C01G1/00 | 分类号： | C01G1/00;C01G3/02;H01B12/06;H01F6/06;H01B13/00;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜;李书慧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化物 超导 线材 及其 制造 方法 | ||
1.一种氧化物超导线材，是在基板层叠有超导层的氧化物超导线材，
所述超导层具有RE－Ba－Cu－O系氧化物超导体和含有ABO3的人工钉扎，RE表示稀土元素，A表示Ba、Sr或Ca，B表示Hf、Zr或Sn，
在所述超导层的截面TEM图像中，所述人工钉扎相对于所述超导层的厚度方向的倾斜角的标准偏差σ为6.13～11.73°的范围，所述人工钉扎的平均长度为19.84～25.44nm的范围。
2.根据权利要求1所述的氧化物超导线材，其中，所述超导层的与厚度方向垂直的面内的所述人工钉扎的数量密度为1000～3500个/μm2。
3.根据权利要求1或2所述的氧化物超导线材，其中，由X射线强度比算出的所述RE－Ba－Cu－O系氧化物超导体的a轴取向粒的比例为10％以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化物超导线材，其中，温度30K、磁场2T的临界电流密度Jc为6.0MA/cm2以上。
5.一种氧化物超导线材的制造方法，所述氧化物超导线材在基板层叠有超导层且温度30K、c轴方向的磁场2T的临界电流密度Jc为6.0MA/cm2以上，
所述氧化物超导线材的制造方法具备利用脉冲激光沉积法即PLD法对具有RE－Ba－Cu－O系氧化物超导体和含有ABO3的人工钉扎的所述超导层进行成膜的工序，其中，RE为稀土元素，A表示Ba、Sr或Ca，B表示Hf、Zr或Sn，
所述超导层的沉积速度为23nm/秒以上。
6.根据权利要求5所述的氧化物超导线材的制造方法，其中，所述超导层的沉积速度为36nm/秒以上。
7.根据权利要求6所述的氧化物超导线材的制造方法，其中，所述超导层的沉积速度为36～70nm/秒。
8.根据权利要求7所述的氧化物超导线材的制造方法，其中，超导层的沉积速度为46～70nm/秒。
9.根据权利要求5～8中任一项所述的氧化物超导线材的制造方法，其中，所述超导层的与厚度方向垂直的面内的所述人工钉扎的数量密度为1000～3500个/μm2。
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