[发明专利]用于改进烃提质的系统和工艺

权利要求书

1.一种用于热处理含烃流的反应器系统，包括：

压力容纳容器，所述压力容纳容器包括由第一端、第二端和从所述第一端延伸至所述第二端的至少一个侧壁限定的内部腔室；和

陶瓷传热介质，所述陶瓷传热介质将电流转换为热量且位于所述压力容纳容器的所述内部腔室内，其中，所述传热介质包括：

电阻器

电引线，所述电引线被配置为向所述传热介质提供电流，

第一端面，

第二端面，以及

在所述第一端面和所述第二端面之间延伸的通道。

2.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述陶瓷传热介质包括氮化铝、氮化硅、氮化硼、钛酸钡、碳化硅、氧化铝、氧化镁、二氧化硅、长石或氧化锆中的至少一种。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质的所述通道限定从所述压力容纳容器的所述第一端延伸到所述压力容纳容器的所述第二端的流体路径。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的反应器系统，其中，临界流文丘里管机械地耦合至所述传热介质的所述第一端面之一。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的反应器系统，其中，所述通道包括边界层扰动元件，所述边界层扰动元件在流体流过所述通道时增加流体湍流。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质的通道表面积为450至550mm²。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质包括银、氧化铁、氧化钼、氧化钒、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化锆、碳酸钾、氧化钾、氧化钛、氧化镉、氧化铝、氧化锡和/或氧化铂中的至少一种。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质具有的壁和通道的组合表面积为650至750mm²。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质的总表面积为20至250m/s的速度下每小时每千克流体流0.08至0.2m²。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质包括50至70个加热元件。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质产生每个加热元件10至1000kW。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质的最大热通量为700至800J/m²s。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质的比热容为0.5至1J/g K。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质的热导率为150至200W/m K。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的反应器系统，其中，所述传热介质包括：

一个或多个加热元件；和

一个或多个电路，所述一个或多个电路包括电极，

其中，所述一个或多个加热元件将电流转换为热量，并且所述传热介质将所述热量从所述一个或多个加热元件传导至所述通道。