[发明专利]具有多个电压域的DRAM设备在审

专利信息
申请号: 201980050375.X 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN112513987A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: T·沃吉尔桑 申请(专利权)人: 拉姆伯斯公司
主分类号: G11C7/06 分类号: G11C7/06;G11C7/08;G11C7/12;G11C11/408;G11C11/4094;H01L27/108
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 酆迅;傅远
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 电压 dram 设备
【说明书】:

一种DRAM设备的动态存储器阵列使用大于DRAM设备的大多数数字逻辑电路系统的操作(即,开关)电压的位线电压来操作。数字逻辑电路系统使用低于用于在DRAM阵列的位线上存储/检索数据的电压的电源电压来操作。这样可以将较低电压摆幅(以及从而将较低功率)数字逻辑用于DRAM设备上的大多数非存储阵列逻辑,从而降低了非存储阵列逻辑的功耗,进而降低了整个DRAM设备的功耗。

附图说明

图1是示出根据一个实施例的动态随机存取存储器(DRAM)设备的框图。

图2是示出示例读出放大器的图。

图3是示出示例局部全局数据线开关的图。

图4是示出示例位线到局部数据线开关的图。

图5是示出经偏移补偿的读出放大器的元件的图。

图6是示出经偏移补偿的读出放大器的示例位线均衡块的图。

图7是处理系统的框图。

具体实施方式

降低电子器件和计算机系统的功耗是一个持续的目标。因此,降低动态随机存取存储器(DRAM)设备的功耗是该工作的一部分。导致DRAM设备功耗的主要因素与公式P=CV2f相关联,其中P是功耗,C是电容,V是开关电压,f是开关频率。因此,由于电压在上式中为平方,因此降低开关电压对降低功耗具有重要影响。

在一个实施例中,DRAM设备的(多个)动态存储器阵列使用大于DRAM设备的大多数数字逻辑电路系统的操作(即,开关)电压的位线电压来操作。换言之,数字逻辑电路系统使用低于用于从DRAM阵列存储/检索数据的电压的电源电压来操作。这样可以将较低电压摆幅(以及从而将较低功率)的数字逻辑用于DRAM设备上的大多数非存储阵列逻辑,从而降低了非存储阵列逻辑的功耗,进而降低了整个DRAM设备的功耗。

图1是示出根据一个实施例的动态随机存取存储器(DRAM)设备的框图。在图1中,DRAM设备100包括多个存储体/子存储体、控制电路系统160和接口电路系统170。DRAM设备100可以是至少一个集成电路,位于至少一个集成电路上,或者包括至少一个集成电路。DRAM存储体包括子阵列(例如,子阵列128)、读出放大器带(例如,读出放大器带130)、列解码和子阵列访问电路系统140以及字线控制电路系统150。读出放大器带130包括读出放大器(例如,读出放大器110)和局部全局开关(例如,局部全局开关127)。子阵列包括存储器位单元(例如,单元123)。存储器位单元123连接到字线122、位线121和列选择线124。读出放大器110连接到位线121和局部数据线125。局部全局开关127连接到局部数据线125和全局数据线126。

控制电路系统160可操作地耦合到DRAM存储体,以处理至少列地址、行地址和/或经由物理接口170接收的命令。控制电路系统160包括在正常操作模式下使用所选择的(例如,由DRAM设备100的制造商)数字逻辑电源电压(又称VDD)进行操作的数字逻辑电路系统。控制电路系统160可以包括使用互补金属氧化物半导体(CMOS)型逻辑门实现的大多数电路系统。控制电路系统160可以包括使用在高K/金属栅极(HKMG)CMOS制造工艺中实现的CMOS逻辑实现的电路系统。全摆幅CMOS逻辑门的信号摆幅(即,在逻辑“1”与逻辑“0”之间)的范围可以从与负电源/参考/衬底电压相对应的最小值到与数字逻辑电源电压相对应的最大电压。

在一个实施例中,DRAM设备100在正常操作模式(即,非测试模式)下使用位线电压(即,相对于负电源/参考/衬底电压的最大电压)进行操作,该位线电压高于DRAM设备100上的大多数数字逻辑的数字逻辑电源和/或最大信号摆幅电平(相对于与位线电压所参考的相同的负电源/参考/衬底电压)。具体地,位线121可以使用大于控制电路系统160的最大电压来操作。为简便起见,位线电压在本文中可以被称为VBL。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拉姆伯斯公司,未经拉姆伯斯公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980050375.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top