[发明专利]用于制造微结构的方法在审

专利信息
申请号: 201980050660.1 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN112512959A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: R.奥斯索尔特;N.阿姆布罗西乌斯 申请(专利权)人: LPKF激光电子股份公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 侯宇
地址: 德国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 微结构 方法
【权利要求书】:

1.一种用于在衬底(1)中制造具有膜状的、跨接式或悬伸式的面(2)的微结构的方法,所述面是由于通过蚀刻过程导致的材料弱化、通过材料去除来在衬底(1)中产生凹空(3)而获得的,其特征在于,在通过由玻璃、尤其石英玻璃构成的衬底(1)形成的玻璃衬底中制造所述微结构,方式是:在第一步骤中,将修饰部(4)借助于激光辐射沿着优选环形闭合的周围轮廓引入衬底(1)中,并且将至少一个膜层(7)面状地施加到衬底(1)上来制造跨接式或悬伸式的面(2),其中,在衬底(1)和膜层(7)之间将牺牲层(6)至少包围在包围所述修饰部(4)的周围轮廓(5)的局部面中,其中,随后使衬底(1)的背离膜层(7)的一侧受到蚀刻作用,通过该蚀刻作用主要沿着激光修饰的区域的周围轮廓(5)进行材料去除,直至达到牺牲层(6),从而导致牺牲层(6)的溶解或减少,并且最终导致衬底(1)的被周围轮廓(5)包围的轮廓的连接部从周围的衬底(1)以及从膜层(7)分离。

2.一种用于在尤其由石英玻璃构成的玻璃衬底中制造具有膜状的、跨接式或悬伸式的面(2)的微结构的方法,所述面是由于通过蚀刻过程导致的材料弱化、通过材料去除来在玻璃衬底中产生至少一个凹空(3)而获得的,所述方法具有以下方法步骤:

·将修饰部(4)借助于激光辐射沿着至少一个优选环形闭合的周围轮廓(5)引入玻璃衬底中;

·在包围所述修饰部(4)的周围轮廓(5)的第一区域中,将牺牲层(6)施加到玻璃衬底上;

·在包围第一区域的第二区域中,将膜层(7)施加到所述牺牲层(6)上;

·从玻璃衬底的背离膜层(7)的一侧对玻璃衬底进行蚀刻,从而材料去除至少基本上沿着激光修饰的区域的修饰部的周围轮廓(5)进行,直至达到牺牲层(6),从而导致牺牲层(6)的溶解或减少,并且最终导致玻璃衬底(1)的被周围轮廓(5)包围的轮廓的连接部从周围的玻璃衬底(1)以及从膜层(7)分离。

3.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,在借助于激光辐射将所述修饰部(4)引入玻璃衬底中之后,首先使玻璃衬底的至少一个外表面受到蚀刻作用并且由此引入至少一个凹空(3),并且随后依次在所述第一区域中将牺牲层(6)并且在所述第二区域中将膜层(7)至少施加到设有凹空(3)的外表面上,并且随后使玻璃衬底的背离膜层的外表面受到又一次蚀刻作用,直至玻璃衬底的被周围轮廓(5)包围的轮廓的连接部从周围的玻璃衬底以及从膜层(7)分离。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,所述修饰部(4)沿着多个环形闭合的周围轮廓(5)被引入所述玻璃衬底中,其中,所述多个周围轮廓(5)包围彼此。

5.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,将相邻的周围轮廓(5)彼此平行间隔地引入所述玻璃衬底中。

6.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,沿着第一周围轮廓(5)的激光辐射的参数不同于沿着被第一周围轮廓(5)包围的第二周围轮廓(5)的激光辐射的参数。

7.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,所述蚀刻作用中的至少一个蚀刻作用尤其通过使用掩蔽而被限于周围轮廓(5)的局部区域。

8.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,所述膜层(7)和/或所述牺牲层(6)通过溅射过程施加。

9.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,所述周围轮廓(5)沿着柱体形或多边形的周面被引入。

10.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,在朝向膜层(7)的一侧中的周围轮廓与在背离膜层(7)的一侧上的周围轮廓(5)不同地引入。

11.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,在施加所述牺牲层(6)和所述膜层(7)之前,将所述修饰部(4)引入所述玻璃衬底中。

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