[发明专利]材料输送系统

权利要求书

1.一种材料输送系统，其用于输送材料进入或离开热解系统，所述材料输送系统包括：

第一导管，其包括第一入口和第一出口；

存储装置；

一个或多个水平传感器；以及

第二导管，其包括第二入口和第二出口；其中

所述第一导管被配置为：

在所述第一入口处接收材料；

将所接收的材料从所述第一入口输送至所述第一出口；并且

通过所述第一出口将材料提供至所述存储装置；

所述存储装置被配置为存储从所述第一导管接收的材料；

所述一个或多个水平传感器被配置为测量所述存储装置内的材料的水平高度；

所述第二导管被配置为：

在所述第二入口处接收来自所述存储装置的材料；

将所接收的材料从所述第二入口输送至所述第二出口；并且

通过所述第二出口输出材料；以及

沿着所述第一导管和所述第二导管中的一者或两者的材料的输送被控制为取决于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值。

2.根据权利要求1所述的材料输送系统，其中，沿着所述第一导管和所述第二导管中的两者的材料的输送被控制为取决于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值。

3.根据权利要求1所述的材料输送系统，其中，沿着仅是所述第二导管而非所述第一导管的材料的输送被控制为取决于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值。

4.根据权利要求1或2所述的材料输送系统，其中，所述第一导管被配置成是受控的，使得响应于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值低于第一阈值水平高度来输送材料。

5.根据权利要求1或2或4所述的材料输送系统，其中，所述第一导管被配置成是受控的，使得响应于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值大于或等于第一阈值水平高度而不输送材料。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的材料输送系统，其中，所述第二导管被配置成是受控的，使得响应于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值大于或等于第二阈值水平高度来输送材料。

7.根据权利要求1至7中任一项所述的材料输送系统，其中，所述第二导管被配置成是受控的，使得响应于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值低于第二阈值水平高度而不输送材料。

8.根据从属于权利要求4或5时的权利要求6或7所述的材料输送系统，其中，第二阈值水平高度大于第一阈值水平高度。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的材料输送系统，其中，所述第一导管被配置为使得材料被提供至所述存储装置的速率能够变化。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的材料输送系统，其中，所述第二导管被配置为使得输出材料的速率能够变化。

11.根据从属于权利要求9时的权利要求10所述的材料输送系统，其中，所述第一导管和所述第二导管是独立可控的，使得它们各自的速率能够彼此独立地变化。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的材料输送系统，其中：

所述第一导管在其中包括用于沿着所述第一导管输送材料的第一螺杆；

所述第二导管在其中包括用于沿着所述第二导管输送材料的第二螺杆；并且

所述第一螺杆和所述第二螺杆中的至少一者的旋转被控制为取决于通过所述一个或多个水平传感器所得的水平高度测量值。

13.根据权利要求12所述的材料输送系统，其中，所述第一螺杆和所述第二螺杆是独立可控的。