[发明专利]臭氧水输送系统及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201980054540.9 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN112601720A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 海恩利希·赛威特;克里斯提恩·勒提克;乌尔利希·布拉莫 申请(专利权)人: MKS仪器公司
主分类号: C02F1/78 分类号: C02F1/78
代理公司: 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 代理人: 何尤玉;郭仁建
地址: 美国麻*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 臭氧 输送 系统 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种臭氧水输送系统,其包括:

至少一个接触装置;

至少一个超纯水源,所述至少一个超纯水源被配置成提供超纯水;

至少一个超纯水导管,所述至少一个超纯水导管耦接到所述至少一个超纯水源;

至少一种溶液,所述至少一种溶液通过所述至少一个超纯水导管与所述至少一个接触装置和所述至少一个超纯水源连通;

至少一个气体源,所述至少一个气体源含有至少一种气体、与所述至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管中的至少一个连通,所述至少一种气体在与所述超纯水反应时形成至少一种溶液;

至少一个混合气体导管,所述至少一个混合气体导管与所述至少一个气体源和所述至少一个接触装置连通,所述至少一个混合气体导管被配置成向所述至少一个接触装置提供至少一种混合气体;以及

至少一个臭氧水输出导管,所述至少一个臭氧水输出导管与所述至少一个接触装置连通。

2.根据权利要求1所述的臭氧水输送系统,其中所述接触装置包括至少一个填充柱接触装置。

3.根据权利要求1所述的臭氧水输送系统,其中所述接触装置包括其中包含塔填料的至少一个填充柱接触装置。

4.根据权利要求1所述的臭氧水输送系统,其中所述接触装置包括其中具有至少一个膜组件的至少一个基于膜的接触装置。

5.根据权利要求1所述的臭氧水输送系统,其中所述至少一个气体源被配置成向所述至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管中的至少一个提供二氧化碳,由此形成二氧化碳水溶液。

6.根据权利要求5所述的臭氧水输送系统,其中所述至少一个气体源被配置成使二氧化碳以约0.01SLPM到约0.5SLPM的流速流到至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管。

7.根据权利要求5所述的臭氧水输送系统,其中所述至少一个气体源被配置成使二氧化碳以约0.05SLPM到约0.3SLPM的流速流到至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管。

8.根据权利要求5所述的臭氧水输送系统,其中所述至少一个气体源被配置成使二氧化碳以约0.1SLPM到约0.2SLPM的流速流到至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管。

9.根据权利要求5所述的臭氧水输送系统,其中所述至少一个气体源被配置成使二氧化碳以固定的气体流速流到至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管。

10.根据权利要求5所述的臭氧水输送系统,其中所述至少一个气体源被配置成使二氧化碳以可变的气体流速流到至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管和至少一个溶液导管。

11.根据权利要求1所述的臭氧水输送系统,其中通过所述至少一个混合气体导管从所述至少一个气体源流到所述至少一个接触装置的至少一种混合气体包含氧气、臭氧和二氧化碳。

12.根据权利要求11所述的臭氧水输送系统,其中通过所述至少一个混合气体导管从所述至少一个气体源流到所述至少一个接触装置的至少一种混合气体可以包含选自氮气、二氧化氮和二氧化二氮的至少一种气体。

13.根据权利要求1所述的臭氧水输送系统,其进一步包括定位在所述至少一个气体源、所述至少一个超纯水源、所述至少一个超纯水导管、至少一个溶液导管、所述至少一个混合气体导管、至少臭氧水出口导管中的至少一个上的处理器、阀、质量流量控制器、流量传感器、量规、指示器、流量限制器和传感器中的至少一个。

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