[发明专利]成膜方法在审
申请号: | 201980055286.4 | 申请日: | 2019-06-13 |
公开(公告)号: | CN112601839A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 渡部武纪;桥上洋 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40;C23C16/448 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;谢顺星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 方法 | ||
1.一种成膜方法,其是在成膜部对雾进行热处理而进行成膜的成膜方法,其包括:
在雾化部将原料溶液雾化而产生雾的工序;
经由连接所述雾化部和所述成膜部的输送部,通过载气将所述雾从所述雾化部输送至所述成膜部的工序;以及
在所述成膜部对所述雾进行热处理,从而在基体上进行成膜的工序,
当将所述载气的流量设为Q(L/分)、将所述载气的温度设为T(℃)时,以7<T+Q<67的方式对所述载气的流量和所述载气的温度进行控制。
2.根据权利要求1所述的成膜方法,其特征在于,使所述T+Q为17<T+Q<57。
3.根据权利要求1或2所述的成膜方法,其特征在于,使所述T+Q为27<T+Q<47。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的