[发明专利]化合物、和包含其的组合物、以及抗蚀图案的形成方法和绝缘膜的形成方法在审
申请号: | 201980055556.1 | 申请日: | 2019-08-21 |
公开(公告)号: | CN112639021A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 佐藤隆;越后雅敏;牧野岛高史 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C08L61/04 | 分类号: | C08L61/04;C07C39/367;C07C69/712;C07C69/96;C08G8/00;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 包含 组合 以及 图案 形成 方法 绝缘 | ||
1.一种组合物,其包含多酚化合物(B),
所述多酚化合物(B)为选自由下述式(1)所示的化合物和具有下述式(2)所示的结构的树脂组成的组中的1种以上,
式(1)中,RY为氢原子、任选具有取代基的碳数1~30的烷基或任选具有取代基的碳数6~30的芳基;
RZ为任选具有取代基的碳数1~60的N价的基团或单键;
RT各自独立地为任选具有取代基的碳数1~30的烷基、任选具有取代基的碳数6~30的芳基、任选具有取代基的碳数2~30的烯基、任选具有取代基的碳数2~30的炔基、任选具有取代基的碳数1~30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、交联性基团、解离性基团、硫醇基或羟基,其中,RT中的至少1者包含交联性基团、解离性基团或羟基,所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述炔基、所述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键;
其中,RZ包含至少2个碘原子;
X为氧原子、硫原子或为无桥接;
m各自独立地为0~9的整数,其中,m中的至少1个为1~9的整数;
r各自独立地为0~2的整数,其中,r中的至少1个为1~2的整数;
N为1~4的整数,其中,N为2以上的整数的情况下,N个[]内的结构式任选相同或不同,
式(2)中,L为任选具有取代基的碳数1~30的亚烷基、任选具有取代基的碳数6~30的亚芳基、任选具有取代基的碳数1~30的亚烷氧基或单键,所述亚烷基、所述亚芳基、所述亚烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键;
RY为氢原子、任选具有取代基的碳数1~30的烷基或任选具有取代基的碳数6~30的芳基;
RZ为任选具有取代基的碳数1~60的N价的基团或单键;
RT各自独立地为任选具有取代基的碳数1~30的烷基、任选具有取代基的碳数6~30的芳基、任选具有取代基的碳数2~30的烯基、任选具有取代基的碳数2~30的炔基、任选具有取代基的碳数1~30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、交联性基团、解离性基团、硫醇基或羟基,其中,RT中的至少1者包含交联性基团、解离性基团或羟基,所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述炔基、所述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键;
其中,RZ包含至少2个碘原子;
X为氧原子、硫原子或为无桥接;
m各自独立地为0~9的整数,其中,m中的至少1个为1~9的整数;
r各自独立地为0~2的整数,其中,r中的至少1个为1~2的整数;
N为1~4的整数,其中,N为2以上的整数的情况下,N个[]内的结构式任选相同或不同。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中,还含有基材(A),所述基材(A)为选自由苯酚酚醛清漆树脂、甲酚酚醛清漆树脂、羟基苯乙烯树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、羟基苯乙烯-(甲基)丙烯酸类共聚物、环烯烃-马来酸酐共聚物、环烯烃、乙烯基醚-马来酸酐共聚物、和具有金属元素的无机抗蚀材料、以及它们的衍生物组成的组中的1种以上。
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