[发明专利]热电转换材料的芯片的制造方法、以及使用了由该制造方法得到的芯片的热电转换组件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201980055839.6 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN112602204A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 户高昌也;加藤邦久;武藤豪志;胜田祐马 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: H01L35/34 分类号: H01L35/34;H01L35/08;H01L35/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王利波
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 热电 转换 材料 芯片 制造 方法 以及 使用 得到 组件
【权利要求书】:

1.一种热电转换材料的芯片的制造方法,其是制造由热电半导体组合物形成的热电转换材料的芯片的方法,该方法包括:

(A)在基板上形成牺牲层的工序;

(B)在所述工序(A)中得到的所述牺牲层上形成所述热电转换材料的芯片的工序;

(C)对所述工序(B)中得到的所述热电转换材料的芯片进行退火处理的工序;以及

(D)将所述工序(C)中得到的退火处理后的所述热电转换材料的芯片剥离的工序。

2.根据权利要求1所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述牺牲层包含树脂、或脱模剂。

3.根据权利要求2所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述树脂为热塑性树脂。

4.根据权利要求3所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述热塑性树脂为聚甲基丙烯酸甲酯、或聚苯乙烯。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述脱模剂为氟类脱模剂、或有机硅类脱模剂。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述牺牲层的厚度为10nm~10μm。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述基板为选自玻璃、氧化铝及硅中的1种。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述热电半导体组合物包含热电半导体材料,该热电半导体材料为铋-碲类热电半导体材料、碲化物类热电半导体材料、锑-碲类热电半导体材料、或硒化铋类热电半导体材料。

9.根据权利要求8所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述热电半导体组合物进一步包含耐热性树脂、以及离子液体和/或无机离子性化合物。

10.根据权利要求9所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述耐热性树脂为聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、或环氧树脂。

11.根据权利要求1~10中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述退火处理在温度250~600℃下进行。

12.根据权利要求1~11中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述工序(D)包括:

(D-1)将所述工序(C)中得到的退火处理后的所述热电转换材料的芯片从所述牺牲层剥离、并转印至粘合片的粘合剂层的工序;以及

(D-2)使所述粘合剂层的粘合力降低,将所述工序(D-1)中转印后的热电转换材料的芯片从所述粘合剂层剥离的工序。

13.根据权利要求12所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

在所述工序(D-2)中,通过热或照射能量射线来进行所述粘合剂层的粘合力的降低。

14.根据权利要求12或13所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述粘合剂层包含能量射线固化型粘合剂、加热固化型粘合剂、或加热发泡型粘合剂。

15.根据权利要求12~14中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述热电转换材料的芯片的形成通过模版印刷法进行。

16.根据权利要求12~15中任一项所述的热电转换材料的芯片的制造方法,其中,

所述粘合剂层的厚度与所述热电转换材料的芯片的厚度之比为5/100~70/100。

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