[发明专利]用于光电器件的有机分子在审
| 申请号： | 201980055909.8 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN112601797A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | L·伯格曼;D·辛克;A·雷谢特尼克 | 申请（专利权）人： | 辛诺拉有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/06 | 分类号： | C09K11/06;C07D401/10;C07D401/14;H01L51/00;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 冯永贞 |
| 地址： | 德国布*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光电 器件 有机 分子 | ||
1.一种有机分子，所述有机分子包含
-一个包含式I的结构的第一化学部分，
和
-两个第二化学部分，所述两个第二化学部分各自独立地包含式II的结构，
其中所述第一化学部分经由单键与所述两个第二化学部分中的每一个连接；
T选自RA和R1；
V选自RA和R1；
W为连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点，或者选自RA和R1；
X为连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点，或者选自RA和R1；
Y为连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点，或者选自RA和R1；
RA包含式Tz的结构：
其中虚线键表示RA与连接所述第学部分和RA的单键的结合位点；
RT选自RB和R2；
RV选自RB和R2；
RW为连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点，或者选自RB和R2；
RX为连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点，或者选自RB和R2；
RY为连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点，或者选自RB和R2；
RB包含式BZN的结构：
其中虚线键表示RB与连接所述第一化学部分和RB的单键的结合位点；
#表示连接所述第二化学部分与所述第一化学部分的单键的结合位点；
Z在每次出现时独立地选自直接键、CR3R4、C＝CR3R4、C＝O、C＝NR3、NR3、O、SiR3R4、S、S(O)和S(O)2；
R1在每次出现时独立地选自
氢；
氘；
C1-C5-烷基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-烯基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-炔基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；和
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；
R2在每次出现时独立地选自
氢；
氘；
C1-C5-烷基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-烯基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-炔基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；和
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；
RI、RII和RIII在每次出现时独立地选自
氢；
氘；
L(RS)3；
C1-C5-烷基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-烯基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-炔基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；和
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；
L选自硅(Si)和锗(Ge)；
RIV在每次出现时独立地选自
氢；
氘；
C1-C5-烷基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-烯基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-炔基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；和
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；
RS在每次出现时独立地选自
C1-C5-烷基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-烯基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C2-C8-炔基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；和
C3-C17-杂芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；
RTz在每次出现时独立地选自
氢；
氘；
C1-C5-烷基，
其中一个或多个氢原子任选被氘所取代；
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代；和
C3-C17-杂芳基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代；
Ra、R3和R4在每次出现时独立地选自：氢；氘；N(R5)2；OR5；Si(R5)3；B(OR5)2；OSO2R5；CF3；CN；F；Br；I；
C1-C40-烷基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C＝CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代；
C1-C40-烷氧基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C＝CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代；
C1-C40-硫代烷氧基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C＝CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代；
C2-C40-烯基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C＝CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代；
C2-C40-炔基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C＝CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代；
C6-C60-芳基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代；
C3-C57-杂芳基，
其任选被一个或多个取代基R5所取代；和
单环或多环、脂族、芳族和/或苯并稠合环系，其通过与选自Ra、R3、R4和R5的其他取代基中的一个或多个的闭环形成；
R5在每次出现时独立地选自：氢；氘；N(R6)2；OR6；Si(R6)3；B(OR6)2；OSO2R6；CF3；CN；F；Br；I；
C1-C40-烷基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R6C＝CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR6、P(＝O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S或CONR6所取代；
C1-C40-烷氧基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R6C＝CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR6、P(＝O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S或CONR6所取代；
C1-C40-硫代烷氧基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R6C＝CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR6、P(＝O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S或CONR6所取代；
C2-C40-烯基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R6C＝CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR6、P(＝O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S或CONR6所取代；
C2-C40-炔基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R6C＝CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C＝O、C＝S、C＝Se、C＝NR6、P(＝O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S或CONR6所取代；
C6-C60-芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；
C3-C57-杂芳基，
其任选被一个或多个取代基R6所取代；和
单环或多环、脂族、芳族和/或苯并稠合环系，其通过与选自Ra、R3、R4和R5的其他取代基中的一个或多个的闭环形成；
R6在每次出现时独立地选自：氢；氘；OPh；CF3；CN；F；
C1-C5-烷基，
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代；
C1-C5-烷氧基，
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代；
C1-C5-硫代烷氧基，
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代；
C2-C5-烯基，
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代；
C2-C5-炔基，
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代；
C6-C18-芳基，
其任选被一个或多个C1-C5-烷基取代基所取代；
C3-C17-杂芳基，
其任选被一个或多个C1-C5-烷基取代基所取代；
N(C6-C18-芳基)2；
N(C3-C17-杂芳基)2；和
N(C3-C17-杂芳基)(C6-C18-芳基)；
其中任选地所述取代基Ra、R3、R4或R5彼此独立地与一个或多个取代基Ra、R3、R4或R5形成单环或多环、脂族、芳族和/或苯并稠合环系；
其中
确切地一个选自T、V、X、Y和W的取代基为RA；
确切地一个选自RT、RV、RX、RY和RW的取代基为RB；
确切地一个选自RI、RII和RIII的取代基为L(RS)3，其中L选自Si和Ge；
确切地一个选自W、X和Y的取代基表示连接所述第一化学部分与所述第二化学部分的单键的结合位点；并且
确切地一个选自RW、RY和RX的取代基表示连接所述第一化学部分与所述两个第二化学部分中之一的单键的结合位点。
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