[发明专利]负型感光性树脂组合物在审
申请号: | 201980056292.1 | 申请日: | 2019-07-30 |
公开(公告)号: | CN112639618A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 铃木朋哉;安达勋 | 申请(专利权)人: | 日产化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/033 | 分类号: | G03F7/033;C08F220/06;G02B1/04;G02B3/00;G03F7/027 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李渊茹;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 | ||
本发明的课题是提供新的负型感光性树脂组合物。解决手段是一种负型感光性树脂组合物,其含有下述(A)成分、相对于该(A)成分100质量%为80质量%~90质量%的下述(B)成分、相对于该(B)成分的总量100质量%为3质量%~20质量%的下述(C)成分、以及溶剂。(A)成分:碱溶性聚合物,(B)成分:1分子中具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基和乙烯基中的聚合性基的至少2种交联性化合物,(C)成分:至少1种光聚合引发剂。
技术领域
本发明涉及含有碱溶性聚合物、至少2种交联性化合物、至少1种光聚合引发剂、和溶剂的负型感光性树脂组合物。特别是涉及用于形成微透镜的负型感光性树脂组合物。
背景技术
一直以来,在CCD/CMOS图像传感器等电子器件中,为了使聚光效率提高而设置微透镜。作为CCD/CMOS图像传感器用微透镜的制作方法之一,已知回蚀法(专利文献1和专利文献2)。即,通过在形成于滤色器上的微透镜用树脂层上形成抗蚀剂图案,通过热处理将该抗蚀剂图案回流而形成透镜图案。以将该抗蚀剂图案回流而形成的透镜图案作为蚀刻掩模,将下层的微透镜用树脂层回蚀,将透镜图案形状转印于微透镜用树脂层,从而制作微透镜。对这样的微透镜要求耐化学品性、高透明性等各种特性。
此外,仅在CCD/CMOS图像传感器、液晶显示器、和有机EL显示器等电子器件元件上的任意位置将膜进行图案形成的情况下,要求光刻性。对于这样的感光性材料,要求可以以低曝光量形成图案(灵敏度特性)、和可以抑制碱显影后残渣的产生。
另外,提出了含有马来酰亚胺系共聚物的微透镜形成用感光性树脂组合物(专利文献3)、含有三嗪骨架的正型抗蚀剂组合物(专利文献4)。然而,这些专利文献为了满足上述各种特性、特别是耐溶剂性,需要超过100℃,例如140℃~260℃的高温加热,不能够通过100℃以下的低温加热而满足上述特性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平1-10666号公报
专利文献2:日本特开平6-112459号公报
专利文献3:日本专利第5867735号公报
专利文献4:日本专利第5673963号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是基于上述情况而提出的,其所要解决的课题是提供,在100℃的烘烤温度下获得的膜可以显著改善高透明性、耐溶剂性、灵敏度特性、和未曝光部的残渣的负型感光性树脂组合物。
用于解决课题的方法
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究,结果完成了本发明。即,本发明是一种负型感光性树脂组合物,其含有下述(A)成分、相对于该(A)成分100质量%为80质量%~90质量%的下述(B)成分、相对于该(B)成分的总量100质量%为3质量%~20质量%的下述(C)成分、以及溶剂。
(A)成分:碱溶性聚合物
(B)成分:1分子中具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基和乙烯基中的聚合性基的至少2种交联性化合物
(C)成分:至少1种光聚合引发剂
上述至少2种交联性化合物例如包含1分子中具有2个丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基作为上述聚合性基的交联性化合物、和1分子中具有3个以上丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基作为上述聚合性基的交联性化合物。
上述碱溶性聚合物例如具有选自下述式(1a)、式(1b)、式(1c)、式(1d)和式(1e)中的结构单元。
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