[发明专利]涂布方法、涂布棒状头及涂布装置有效

专利信息
申请号: 201980056521.X 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN112789120B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 内藤胜之;信田直美;齐藤三长;齐田穰 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
主分类号: B05D1/26 分类号: B05D1/26;B05C1/02
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 朱龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 方法 涂布棒状头 装置
【权利要求书】:

1.一种涂布方法,所述涂布方法通过向涂布棒状头与基材之间供给涂布液而形成弯月面并使所述基材移动,从而在所述基材表面形成涂膜,其中,

所述涂布棒状头的与长边方向垂直的方向上的剖面在外周部具有:

(a)所述棒状头的与所述基材相向的柱面所对应的向外侧连续地凸起的曲线部;以及

(b)在所述曲线部的两末端,与所述柱面的长边方向平行的端部所对应的两个折弯点,

并且所述剖面中的所述曲线部的曲率半径为10~100mm,

所述涂布棒状头与所述基材的最小间隔为80~600μm,

所述两个折弯点中的至少一方的折弯角度为90~150°,

所述两个折弯点之间的曲线部的长度为5~30mm。

2.根据权利要求1所述的涂布方法,其中,

所述曲线部为圆弧。

3.根据权利要求1或2所述的涂布方法,其中,

所述基材以在所述弯月面的形成部分向所述涂布棒状头凸起的方式弯曲,

在将所述涂布棒状头的所述剖面中的所述曲线部的曲率半径设为r1,并将所述基材的弯曲部中的曲率半径设为r2时,

用r0=1/[(1/r1)+(1/r2)]表示的r0为20~80mm。

4.根据权利要求3所述的涂布方法,其中,满足:

r2r1,或者

r2≥200mm。

5.根据权利要求1或2所述的涂布方法,其中,

所述涂布棒状头水平地固定,从下向上输送所述基材。

6.根据权利要求5所述的涂布方法,其中,

从所述涂布棒状头的上部供给涂布液。

7.一种涂布棒状头,所述涂布棒状头是向涂布棒状头与基材之间供给涂布液而形成弯月面并使所述基材移动的弯月面涂布用棒状头,其中,

所述涂布棒状头的与长边方向垂直的方向上的剖面在外周部具有:

(a)所述棒状头的与所述基材相向的柱面所对应的向外侧连续地凸起的曲线部;以及

(b)在所述曲线部的两末端,与所述柱面的长边方向平行的端部所对应的两个折弯点,

并且所述剖面中的所述曲线部的曲率半径为10~100mm,

所述涂布棒状头与所述基材的最小间隔为80~600μm,

所述两个折弯点中的至少一方的折弯角度为90~150°,

所述两个折弯点之间的曲线部的长度为5~30mm。

8.一种涂布装置,所述涂布装置具有涂布棒状头、基材输送构件及涂布液供给构件,并以在向所述棒状头与利用所述基材输送构件输送的基材之间供给涂布液的情况下形成弯月面的方式配置上述各构件,其中,

所述涂布棒状头的与长边方向垂直的方向上的剖面在外周部具有:

(a)所述棒状头的与所述基材相向的柱面所对应的向外侧连续地凸起的曲线部;以及

(b)在所述曲线部的两末端,与所述柱面的长边方向平行的端部所对应的两个折弯点,

并且所述剖面中的所述曲线部的曲率半径为10~100mm,

所述涂布棒状头与所述基材的最小间隔为80~600μm,

所述两个折弯点中的至少一方的折弯角度为90~150°,

所述两个折弯点之间的曲线部的长度为5~30mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝能源系统株式会社,未经株式会社东芝;东芝能源系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980056521.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top