[发明专利]学习装置、推断装置及学习完成模型在审
申请号: | 201980057338.1 | 申请日: | 2019-08-23 |
公开(公告)号: | CN112640038A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 中乡孝祐;本木大资;渡部正树;小松智希;茂木弘典;本田昌伸;加藤隆彦;新关智彦 | 申请(专利权)人: | 首选网络株式会社;东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;G06N3/02;H01L21/02;H01L21/3065 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 学习 装置 推断 完成 模型 | ||
一种用于提高制造工艺的仿真精度的学习装置。该学习装置包括:取得部,取得对象物的图像数据和关于针对所述对象物的处理的数据;以及学习部,向学习模型输入所述对象物的图像数据和关于所述处理的数据,并且以使所述学习模型的输出接近所述处理后的所述对象物的图像数据的方式,使所述学习模型进行学习。
技术领域
本发明涉及一种学习装置、推断装置及学习完成模型。
背景技术
传统上,半导体制造商通过针对各制造工艺(例如干蚀刻、沉积等)生成物理模型并执行仿真,从而进行最佳配方的探索以及工艺参数的调整等。
另一方面,由于半导体制造工艺的动作复杂,因此也存在无法用物理模型表现的现象,在仿真精度上存在极限。因此,最近正在研究应用进行了机器学习的学习完成模型来代替基于物理模型的仿真。
发明内容
本发明要解决的问题
在此,在学习完成模型的情况下,具有无需如物理模型般地使用物理方程式等来规定半导体制造工艺的各现象的优点,并且有望实现无法由基于物理模型的仿真实现的仿真精度。
本公开的目的在于提高制造工艺的仿真精度。
用于解决问题的手段
本公开的一个实施方式中的学习装置例如具有以下结构。也即,包括:取得部,取得对象物的图像数据和关于针对所述对象物的处理的数据;以及学习部,向学习模型输入所述对象物的图像数据和关于所述处理的数据,并且以使所述学习模型的输出接近所述处理后的所述对象物的图像数据的方式,使所述学习模型进行学习。
附图说明
图1是示出仿真系统的整体结构的示例的图。
图2是示出构成仿真系统的各装置的硬件结构的示例的图。
图3是示出学习用数据的示例的图。
图4是示出第1实施方式中的学习装置的学习部的功能结构的示例的图。
图5是示出第1实施方式中的学习装置的数据构形部的功能结构的示例的图。
图6是示出第1实施方式中的学习装置的数据构形部所进行的处理的具体示例的图。
图7是示出第1实施方式中的学习装置的干蚀刻用学习模型所进行的处理的具体示例的图。
图8是示出学习处理的流程的流程图。
图9是示出推断装置的执行部的功能结构的示例的图。
图10是示出干蚀刻用学习完成模型的仿真精度的图。
图11是示出沉积用学习完成模型的仿真精度的图。
图12是示出第2实施方式中的学习装置的数据构形部的功能结构的示例的图。
图13是示出第2实施方式中的学习装置的干蚀刻用学习模型所进行的处理的具体示例的图。
图14是示出第3实施方式中的学习装置的学习部的功能构成的示例的图。
图15是示出第4实施方式中的学习装置的数据构形部的功能结构的示例的图。
图16是示出推断装置的应用示例的图。
具体实施方式
以下,参照附图对各实施方式进行说明。需要说明的是,在本说明书及附图中,针对具有实质上相同的功能结构的构成要素赋予相同的符号并省略重复的说明。
[第1实施方式]
<仿真系统的整体结构>
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于首选网络株式会社;东京毅力科创株式会社,未经首选网络株式会社;东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980057338.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于处理癌性病变等的装置和方法
- 下一篇:阀上袋技术
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造