[发明专利]正型光敏材料在审
申请号: | 201980057768.3 | 申请日: | 2019-09-03 |
公开(公告)号: | CN112654928A | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 刘卫宏;卢炳宏;陈春伟 | 申请(专利权)人: | 默克专利股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/004;C07C69/84 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 姜煌 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光敏 材料 | ||
1.一种正型光敏组合物,其包含:
a)至少一种光致产酸剂;
b)至少一种酚醛清漆聚合物;
c)至少一种丙烯酸酯聚合物,其包含具有结构(I)的组分,
其中R1至R6独立地为-H或-CH3,A为直链或支链C2至C10亚烷基,B为C1至C12伯或仲未经取代的直链、支链、环状或脂环族烷基,C为C1至C12伯或仲未经取代的直链、支链、环状或脂环族烷基,D为键联基团,其为直接价键,或直链或支链C1至C10亚烷基,Ar为经取代或未经取代的芳族基或杂芳族基,E为直链或支链C2至C10亚烷基,G为酸可裂解基团,t为0摩尔%至约40摩尔%,v为0摩尔%至约15摩尔%,w为0摩尔%至约45摩尔%,x为0摩尔%至约80摩尔%,y为约20摩尔%至约50摩尔%且z为约20摩尔%至约50摩尔%,且另外其中t、v、w、x、y及z的总和等于100摩尔%;
d)至少一种缩水甘油基羟基苯甲酸缩合物材料,其包含一种或多种具有结构(II)的化合物,
其中,
W为分子量为600或更少的有机部分,其中W与其键结的氧形成醚键,
m为1至3的整数,且
n为1至4的整数,且其他限制条件为
当m为1时,n为3或4,且
当m为2或3时,n为1至4的整数,
n’为0或1,
e)至少一种杂环硫醇化合物,其包含选自通用结构(III)、(IIIa)或(IIIb)的环结构,或其互变异构体;及
其中,所述环结构为具有4至8个原子的单环结构或具有5至20个原子的多环结构;且其中该单环结构或该多环结构包含芳族、非芳族或杂芳环,且
在所述结构(III)中,X选自由C(Rt1)(Rt2)、O、S、Se及Te组成的组;
在所述结构(IIIa)中,Y选自由C(Rt3)及N组成的组;
在所述结构(IIIb)中,Z选自由C(Rt3)及N组成的组;且
Rt1、Rt2及Rt3独立地选自由以下各者组成的组:H、具有1至8个碳原子的经取代的烷基、具有1至8个碳原子的未经取代的烷基、具有2至8个碳原子的经取代的烯基、具有2至8个碳原子的未经取代的烯基、具有2至8个碳原子的经取代的炔基、具有2至8个碳原子的未经取代的炔基、具有6至20个碳原子的经取代的芳族基、具有3至20个碳原子的经取代的杂芳族基、具有6至20个碳原子的未经取代的芳族基及具有3至20个碳原子的未经取代的杂芳族基;
f)至少一种溶剂。
2.根据权利要求1的正型光敏组合物,其中具有结构(II)的所述缩水甘油基羟基苯甲酸缩合物材料为其中部分W为选自由脂族烃、脂族烷基醚、双(烷基)砜及双(烷基)酮组成的组的脂族部分的缩水甘油基羟基苯甲酸缩合物材料。
3.根据权利要求1的正型光敏组合物,其中具有结构(II)的缩水甘油基羟基苯甲酸缩合物材料为其中部分W为选自以下各者的芳族部分的缩水甘油基羟基苯甲酸缩合物材料:芳烃、多环芳烃、双(芳基)醚、联苯、双(芳基)砜、双(苯基)亚烷基、(烷基)(芳基)酮、双(芳基)酮、双(芳基)砜及(烷基)(芳基)砜。
4.根据权利要求1至3中任一项的正型光敏组合物,其中m为1。
5.根据权利要求1至3中任一项的正型光敏组合物,其中m为2。
6.根据权利要求1至3中任一项的正型光敏组合物,其中m为3。
7.根据权利要求1至3中任一项的正型光敏组合物,其中n为1。
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