[发明专利]量测设备在审

专利信息
申请号: 201980057917.6 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN112639622A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: M·J·M·范达姆;A·J·登鲍埃夫;N·潘迪 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01N21/47;G01N21/956
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王益
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 设备
【权利要求书】:

1.一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备,所述量测设备包括:

-辐射源,所述辐射源用于产生照射辐射;

-至少两个照射分支,所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构,所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构;以及

-辐射切换器,所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支,

其中所述辐射切换器包括:

普克尔盒,所述普克尔盒被配置成控制所述照射辐射的偏振方向并且输出偏振受控的照射辐射,和

偏振分束器,所述偏振分束器在光学上位于所述普克尔盒的下游,且被配置成根据所述偏振受控的照射辐射的所述偏振方向来将所述偏振受控的照射辐射透射至所述至少两个照射分支中的第一照射分支或将所述偏振受控的照射辐射反射至所述照射分支中的第二照射分支。

2.根据权利要求1所述的量测设备,所述量测设备还包括上游声光可调谐式滤光器,所述上游声光可调谐式滤光器光学上布置在所述普克尔盒的上游,并且被配置成线性地偏振所述照射辐射。

3.根据权利要求1或2所述的量测设备,所述量测设备还包括半波长延迟器,所述半波长延迟器被布置于所述第一照射分支和第二照射分支中的一个照射分支中且被配置成对在所述第一照射分支和第二照射分支中的所述一个照射分支中由所述偏振分束器分别透射或反射的所述偏振受控的照射辐射的所述偏振方向进行旋转。

4.根据前述权利要求中任一项所述的量测设备,其中所述照射分支各自包括布置于所述辐射切换器的下游且被配置成接通和断开相应的照射分支的相应的下游声光可调谐式滤光器。

5.根据前述权利要求中任一项所述的量测设备,所述量测设备还包括控制器,所述控制器被配置成接收表示所述照射辐射的波长的数据并且根据所述照射辐射的所述波长来控制被施加至所述普克尔盒70的电压。

6.根据任一前述权利要求所述的量测设备,其中所述辐射切换器包括空间光调制器,并且其中可选地,所述空间光调制器包括微反射镜器件。

7.根据任一前述权利要求所述的量测设备,其中所述辐射切换器包括声光偏转器。

8.根据任一前述权利要求所述的量测设备,其中所述辐射切换器包括至少一个分束器和多个快门,所述多个快门被配置成控制所述辐射的所述至少一部分至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支的转移。

9.根据任一前述权利要求所述的量测设备,其中所述照射分支被配置成当沿所述结构的法线观察时从不同角度照射所述结构。

10.根据任一前述权利要求所述的量测设备,其中所述照射分支被配置成从彼此均匀地间隔开的不同角度照射所述结构。

11.根据任一前述权利要求所述的量测设备,其中所述照射分支包括用于照射所述结构的至少一个光纤,并且其中可选地,所述至少一个光纤用于直接地照射所述结构或所述至少一个光纤用于经由至少一个其它光学元件间接地照射所述结构。

12.根据任一前述权利要求所述的量测设备,所述量测设备包括:

波长选择器,所述波长选择器被配置成接收所述照射辐射并且传输具有所选波长范围的所述照射辐射,滤除所选波长范围之外的所述照射辐射。

13.根据任一前述权利要求所述的量测设备,所述量测设备包括以下中的至少一个:

-光谱仪,并且其中所述辐射切换器被配置成能选择性地将所述辐射的至少一部分转移至所述光谱仪,和

-束收集器,并且其中所述辐射切换器被配置成能选择性地将所述辐射的至少一部分转移至所述束收集器。

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