[发明专利]浆料及研磨方法在审
| 申请号： | 201980057982.9 | 申请日： | 2019-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN112655075A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 长谷川智康;岩野友洋;松本贵彬 | 申请（专利权）人： | 昭和电工材料株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 浆料 研磨 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种浆料，其为含有磨粒及液态介质的浆料，其中，
所述磨粒包含第1粒子及与该第1粒子接触的第2粒子，
所述第2粒子的粒径小于第1粒子的粒径，
所述第1粒子含有铈氧化物，
所述第2粒子含有铈化合物，
在所述磨粒的含量为0.1质量％的情况下，以离心加速度5.8×104G对所述浆料进行离心分离5分钟时，所获得的液相中的对于波长380nm的光的吸光度超过0。
2.根据权利要求1所述的浆料，其中，
所述铈化合物包含铈氢氧化物。
3.根据权利要求1或2所述的浆料，其中，
所述磨粒的含量为0.01～10质量％。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的浆料，其用于对包含氧化硅的被研磨面进行研磨。
5.一种研磨方法，其包括使用权利要求1至4中任一项所述的浆料对被研磨面进行研磨的工序。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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