[发明专利]磁共振成像系统的线圈装置在审

专利信息
申请号: 201980058060.X 申请日: 2019-09-03
公开(公告)号: CN112703413A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: C·洛斯勒;M·G·赫勒;D·维尔茨;G·福格特米尔;S·魏斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34;G01R33/3415;G01R33/565
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁共振 成像 系统 线圈 装置
【权利要求书】:

1.一种用于磁共振成像的线圈装置(200),包括:

基底结构(210),其具有可变形状;

RF线圈(220),其被布置在所述基底结构上或中;

致动器单元(230),其至少部分地沿着所述基底结构延伸,使得所述基底结构能沿着和/或围绕至少一个轴变形;

位置检测单元(240),其适于检测待检查对象的至少部分相对于所述RF线圈的当前位置;以及

控制单元(250),其被耦合到所述位置检测单元和所述致动器单元,

其中,所述控制单元(250)适于通过响应于检测到的所述当前位置相对于所述对象的所述至少部分的先前位置的变化而驱动所述致动器单元(230)来调整所述基底结构的形状以维持所述基底结构(210)和/或所述RF线圈(220)的外表面与所述对象的所述至少部分的接触。

2.根据权利要求1所述的线圈装置,

其中,所述致动器单元(230)被布置在所述线圈背离所述对象(S)的一侧上。

3.根据权利要求1或2所述的线圈装置,

其中,所述致动器单元(230)包括被耦合到所述控制单元(250)并且适于由所述控制单元控制的一个或多个管道。

4.根据权利要求3所述的线圈装置,

其中,至少两个管道通向所述基底结构(210)的间隔开的区段并且是能选择性地控制的。

5.根据权利要求3或4所述的线圈装置,

其中,在所述管道中导入股状元件(233),所述股状元件与所述基底结构(210)接合。

6.根据权利要求3或4所述的线圈装置,

其中,所述至少一个管道一端连接到压力源(233)而另一端流体地通向具有可变形状的衬垫(300)。

7.根据权利要求6所述的线圈装置,

其中,所述衬垫(300)被布置在所述基底结构和/或所述RF线圈背离对象接触侧的一侧上。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的线圈装置,

其中,所述位置检测单元(240)能以允许检测所述对象的器官移位并且相应地控制所述致动器单元的采样率操作。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的线圈装置,

其中,所述位置检测单元(240)包括适于提供关于所述对象的表面与所述线圈之间的距离的信息的一个或多个距离传感器。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的线圈装置,

其中,所述控制单元(250)被进一步耦合到适于提供关于至少所述基底结构(210)的当前变形的信息的变形确定单元(260)。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的线圈装置,

其中,所述基底结构(210)还包括适于捕获由所述对象施加在所述基底结构上的压力的压力检测单元(270),

其中,所述控制单元(250)还适于驱动所述致动器单元以补偿所捕获的压力。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的线圈装置,

其中,所述控制单元(250)被进一步耦合到磁共振成像系统并且适于提供图像捕获信号以使所述成像系统仅当所述位置被补偿时执行成像。

13.根据前述权利要求中的任一项所述的线圈装置,

其中,所述基底结构(210)包括其上印刷有所述线圈的箔片。

14.根据权利要求12所述的线圈装置,

其中,所述基底结构(210)包括第一箔片和第二箔片,所述第一箔片和所述第二箔片形成所述线圈被布置于其间的夹心布置,

其中,所述箔片在所述线圈面向所述对象的一侧上包括流体地通向压力源的至少一个孔口。

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