[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：

基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；

产酸剂成分(B)，通过曝光产生酸；以及

混合溶剂(S)，混合了由下述式(s1)表示的有机溶剂(S1)，

所述产酸剂成分(B)含有由下述式(b1)表示的化合物(B1)，

[化1]

式中，R^b1为可具有取代基的芳基，R^b2以及R^b3分别独立地为脂肪族烃基，R^b2与R^b3可以相互键合而形成环结构，L^b1、L^b2以及L^b3分别独立地为2价的连接基团或单键，X^-是反荷阴离子，

[化2]

式中，R₁及R₂分别独立地为碳数为1～6的烷基。

2.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，

有机溶剂(S1)为2-羟基异丁酸甲酯。

3.如权利要求1或2所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，

有机溶剂(S1)为2-羟基异丁酸甲酯，

混合溶剂(S)含有5重量％以上40重量％以下的2-羟基异丁酸甲酯。

4.如权利要求1～3的任一项所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，有机溶剂(S1)为2-羟基异丁酸甲酯，

混合溶剂(S)含有10重量％以上35重量％以下的2-羟基异丁酸甲酯。

5.一种抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，包括：

在支承体上使用权利要求1～4的任一项所述的抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的工序；将所述抗蚀剂膜曝光的工序；以及将所述抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案的工序。