[发明专利]气缸盖有效
申请号: | 201980060020.9 | 申请日: | 2019-09-09 |
公开(公告)号: | CN112689706B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | M·克拉姆普菲尔;A·泽尔克 | 申请(专利权)人: | AVL李斯特有限公司 |
主分类号: | F02F1/24 | 分类号: | F02F1/24;F02F1/40 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 朱立鸣 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缸盖 | ||
1.用于内燃机的气缸盖,具有至少一个上部部分冷却室(O)和至少一个下部部分冷却室(U),所述上部部分冷却室(O)和所述下部部分冷却室(U)通过具有元件(1)的中间台面(Z)彼此分隔开,所述元件(1)具有单壁设计,所述元件延伸到燃烧室内并穿透所述中间台面(Z),其中至少一个流动连接形成在所述上部部分冷却室(O)和所述下部部分冷却室(U)之间所述元件(1)内的区域中,其特征在于,所述流动连接由所述元件(1)上的至少一个凹部(2)形成,所述元件(1)上的所述凹部(2)连续地朝向所述下部部分冷却室(U)逐渐变窄,其中冷却剂从所述上部部分冷却室(O)流动到所述下部部分冷却室(U),其中所述中间台面(Z)具有基本锥形的凹部(4),所述元件(1)布置在所述中间台面的凹部(4)中。
2.根据权利要求1所述的气缸盖,其特征在于,所述元件(1)中的所述至少一个凹部(2)为槽形设计,所述元件(1)中的所述凹部(2)在阀桥(V)的方向上开放并与所述元件中的所述凹部(2)的基部(5)对齐,所述基部(5)基本上位于所述元件(1)内。
3.根据权利要求1或2所述的气缸盖,其特征在于,在所述元件(1)中形成朝向每个阀桥(V)开放的所述至少一个凹部(2)。
4.根据权利要求3所述的气缸盖,其特征在于,在所述元件(1)中与每个所述阀桥(V)对应形成三个所述凹部(2)。
5.根据权利要求1所述的气缸盖,其特征在于,所述中间台面的凹部通过所述中间台面(Z)的锥形加工来产生。
6.根据权利要求1所述的气缸盖,其特征在于,在所述元件(1)中设置有至少一个通路(3),所述通路(3)用于所述上部部分冷却室(O)和所述下部部分冷却室(U)之间的流动连接。
7.根据权利要求6所述的气缸盖,其特征在于,所述通路(3)的入口开口距所述中间台面(Z)的距离(a)大于所述元件(1)的所述凹部(2)的起点(A)距所述中间台面(Z)的距离(e)。
8.根据权利要求6或7所述的气缸盖,其特征在于,所述通路(3)布置在所述元件(1)中所处的半径(r1)小于所述元件的凹部(2)的基部(5)布置在所述元件(1)中所处的半径(r2)。
9.根据权利要求6或7所述的气缸盖,其特征在于,所述通路(3)具有直径(d),所述通路(3)的所述直径(d)相对于所述元件(1)的直径(D)之比(d/D)为0.02至0.2之间。
10.根据权利要求9所述的气缸盖,其特征在于,所述通路(3)的所述直径(d)相对于所述元件(1)的直径(D)之比(d/D)为0.06至0.1之间。
11.根据权利要求9所述的气缸盖,其特征在于,所述通路(3)的所述直径(d)相对于所述元件(1)的直径(D)之比(d/D)为约0.08。
12.根据权利要求1所述的气缸盖,其特征在于,所述元件(1)与所述中间台面(Z)之间具有环形间隙(R),所述环形间隙(R)用于所述上部部分冷却室(O)和所述下部部分冷却室(U)之间的流动连接。
13.根据权利要求12所述的气缸盖,其特征在于,所述环形间隙(R)具有宽度(B),所述环形间隙(R)的所述宽度(B)相对于所述元件(1)的直径(D)之比(B/D)小于0.05。
14.根据权利要求13所述的气缸盖,其特征在于,所述环形间隙(R)的所述宽度(B)相对于所述元件(1)的直径(D)之比(B/D)小于0.02。
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