[发明专利]光调制器

权利要求书

1.一种光调制器，其特征在于：

具备：

多个折射率区域，其以沿基准面上的第1方向构成光栅的方式以一定的排列间距在所述基准面上依次配置，且包含非线性光学晶体并且具有在与所述第1方向交叉的状态下沿所述第1方向依次配置的一对侧面；

第1导电膜，其在选自所述多个折射率区域、且属于第1组的1个或其以上的折射率区域，设置于所述一对侧面中的任一个侧面上；以及

第2导电膜，其在选自所述多个折射率区域、且属于第2组的1个或其以上的折射率区域，不与所述第1导电膜重复而设置于所述一对侧面中的任一个侧面上；

所述多个折射率区域的各个被具有比所述多个折射率区域各自的折射率低的折射率的区域包围。

2.如权利要求1所述的光调制器，其特征在于：

属于所述第1组的所述折射率区域中的至少1个折射率区域属于所述第2组。

3.如权利要求1或2所述的光调制器，其特征在于：

在所述多个折射率区域各自，在所述一对侧面中的一个之上设置有所述第1导电膜，在所述一对侧面中的另一个之上设置有所述第2导电膜。

4.如权利要求1～3中的任一项所述的光调制器，其特征在于：

包围所述多个折射率区域的各个的所述区域被填埋有具有比所述多个折射率区域各自的所述折射率低的折射率的材料。

5.如权利要求1～4中的任一项所述的光调制器，其特征在于：

还具备：低折射率层，其以夹着所述基准面的方式与所述多个折射率区域相接，且具有比所述多个折射率区域各自的所述折射率低的折射率。

6.如权利要求5所述的光调制器，其特征在于：

在所述多个折射率区域中的沿所述第1方向相邻的2个折射率区域，所述第1导电膜和所述第2导电膜的一方在所述相邻的2个折射率区域的相互面对面的侧面、和位于所述相互面对面的侧面之间的所述低折射率层的一部分连续地设置。

7.如权利要求1～6中的任一项所述的光调制器，其特征在于：

还具备：光反射层，其在所述多个折射率区域相对于所述基准面的相反侧的空间内，在沿与所述基准面正交的第2方向与所述多个折射率区域分离的状态下设置。

8.如权利要求7所述的光调制器，其特征在于：

所述光反射层包含金属膜或电介质多层膜。

9.如权利要求7或8所述的光调制器，其特征在于：

作为沿所述第2方向定义的光学距离的所述光反射层与所述多个折射率区域的光学距离，是入射光的波长的1/4的整数倍。

10.如权利要求1～9中的任一项所述的光调制器，其特征在于：

所述非线性光学晶体含有铌酸锂和钽酸锂的至少一种。

11.如权利要求1～9中的任一项所述的光调制器，其特征在于：

所述非线性光学晶体含有硼酸锂铯、β-偏硼酸钡和硼酸锂的至少任一种。

12.如权利要求1～11中的任一项所述的光调制器，其特征在于：

所述第1导电膜和所述第2导电膜分别具有透光性。