[发明专利]二次电池用正极活性物质及其制造方法在审
申请号: | 201980061771.2 | 申请日: | 2019-09-02 |
公开(公告)号: | CN112740442A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 细野朱里;饭田恭崇 | 申请(专利权)人: | 株式会社田中化学研究所 |
主分类号: | H01M4/525 | 分类号: | H01M4/525;C01G53/00;H01M4/505 |
代理公司: | 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 | 代理人: | 郭红丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 二次 电池 正极 活性 物质 及其 制造 方法 | ||
1.一种二次电池用正极活性物质,其是单晶粒子和/或多个一次粒子的凝聚体即二次粒子,并且具有至少含有镍、钴以及锰中的1种以上的层状结构,其中,
累计体积百分率为50体积%的粒径即D50±1.0μm的粒子的平均粒子强度为200MPa以上,
在使用CuKα射线进行粉末X射线衍射测定时,当将2θ=64.5±1°的范围出现的2个衍射峰的低角度侧的峰的半峰全宽设为α、将高角度侧的峰的半峰全宽设为β时,β/α为0.97≤β/α≤1.25。
2.一种二次电池用正极活性物质,其是单晶粒子和/或多个一次粒子的凝聚体即二次粒子,并且具有至少含有镍、钴以及锰中的1种以上的层状结构,其中,
累计体积百分率为50体积%的粒径即D50±1.0μm的粒子的平均粒子强度为200MPa以上,
在使用CuKα射线对循环试验前后的正极进行X射线衍射测定时,当将循环试验前后的晶格常数的变化率设为A、C时,
在25℃以及60℃的循环试验中,A和C中的至少一者为99.30%以上且100.90%以下,
所述A=(循环试验前的a轴/循环试验后的a轴)×100,所述C=(循环试验前的c轴/循环试验后的c轴)×100。
3.根据权利要求1或2所述的二次电池用正极活性物质,其由下述通式(1)表示,
Li[Lia(M1xM2y)1-a]O2+b (1)
式中,0≤a≤0.30,-0.30≤b≤0.30,0.9≤x≤1.0,0≤y≤0.1,x+y=1,M1表示至少由Ni、Co以及Mn中的1种以上构成的金属元素,M2表示选自Fe、Cu、Ti、Mg、Al、W、Zn、Sn、Zr、Ga、V、B、Mo、As、Ge、P、Pb、Si、Sb、Nb、Ta、Re以及Bi中的至少1种金属元素。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的二次电池用正极活性物质,其中,累计体积百分率为50体积%的粒径D50为2.0μm以上且20.0μm以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的二次电池用正极活性物质,其中,BET比表面积为0.1m2/g以上且5.0m2/g以下。
6.一种二次电池,其具有根据权利要求1~5中任一项所述的二次电池用正极活性物质。
7.一种二次电池用正极活性物质的制造方法,其包含以下工序:
获得锂化合物和复合氢氧化物粒子的混合物的工序,其中,相对于至少由Ni、Co以及Mn中的1种以上构成的金属元素M1,以1.00≤Li/M1≤1.30的原子比将锂化合物添加到至少含有镍、钴以及锰中的1种以上的复合氢氧化物粒子中;以及
主烧成工序,其中,在由下式表示的烧成温度下对所述混合物进行烧成,
p≥-600q+1603
式中,q为Li相对于至少由Ni、Co以及Mn中的1种以上构成的金属元素M1的合计的原子比即Li/M1,并且1.00≤q≤1.30,p为主烧成温度,并且940℃<p≤1100℃,
除了所述主烧成工序以外,还包含下述(1)~(3)的工序中的至少1个工序,
(1)烧成温度为300℃以上且800℃以下且在所述主烧成工序之前进行的预烧成工序;
(2)烧成温度为600℃以上且900℃以下且在所述主烧成工序之后进行的回火工序;以及
(3)在所述主烧成工序和/或所述回火工序之前添加由M2表示的金属的工序,M2表示选自Fe、Cu、Ti、Mg、Al、W、Zn、Sn、Zr、Ga、V、B、Mo、As、Ge、P、Pb、Si、Sb、Nb、Ta、Re以及Bi中的至少1种金属元素。
8.根据权利要求7所述的制造方法,其中,在所述锂化合物和所述复合氢氧化物粒子的混合工序之前,包含使所述复合氢氧化物粒子的粒度分布宽度为0.40≤(D90-D10)/D50≤1.00的工序。
9.根据权利要求7或8所述的制造方法,其中,在所述主烧成工序中,包含与所述匣钵的接触面的所述混合物的表面积S相对于将所述混合物向匣钵填充时的所述混合物的体积V的比例为0.08≤S/V≤2.00。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社田中化学研究所,未经株式会社田中化学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980061771.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多阶段有源光深度系统
- 下一篇:贴片