[发明专利]用于位置量测的量测传感器在审
申请号: | 201980061820.2 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN112740109A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;S·R·胡伊斯曼;S·G·J·马西森;H·P·M·派勒曼斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/48;G02B21/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 位置 传感器 | ||
1.一种被配置为产生包括多个照射束的测量照射的量测装置,所述照射束中的每一个照射束是空间不相干的或伪空间不相干的并且在所述量测装置的照射光瞳中包括多个光瞳点,其中,所述多个照射束中的每一个照射束中的每一个光瞳点在所述多个照射束中的其他照射束中的至少一个照射束中具有对应的光瞳点,由此限定多个对应的光瞳点集合,并且其中,每个对应的光瞳点集合中的光瞳点相对于彼此是空间相干的。
2.如权利要求1所述的量测装置,其中,每一个光瞳点相对于同一照射束中的所有其他光瞳点基本上是空间不相干的。
3.如权利要求1或2所述的量测装置,其中,至少对于与所考虑的测量方向相对应的所述照射束,每个光瞳点集合是所述照射光瞳内的所有其他光瞳点集合的几何平移。
4.如前述任一项权利要求所述的量测装置,所述量测装置包括离轴照射产生器,所述离轴照射产生器用于从单束非相干辐射产生测量照射的所述多个照射束。
5.如权利要求4所述的量测装置,其中,所述离轴照射产生器包括2D相位光栅或针对每一个测量方向的至少一个相位光栅。
6.如权利要求5所述的量测装置,其中,所述离轴照射产生器包括2D相位光栅或针对每一个测量方向的至少一对相位光栅、至少一对透镜和位于由所述至少一对透镜中的一个透镜限定的傅立叶平面中的至少一对光楔,所述2D相位光栅或所述至少一对相位光栅、所述至少一对透镜和所述至少一对光楔被布置为使得每一个照射束内的不同波长具有共享入射照射角度。
7.如权利要求5或6所述的量测装置,其中,所述离轴照射产生器包括至少一对相位光栅,所述至少一对相位光栅包括具有第一相位轮廓的第一相位光栅和具有第二相位轮廓的第二相位光栅,并且被布置为使得所述第二相位光栅能够相对于所述第一相位光栅移动,以使组合后的相位轮廓包括可调谐的不对称性。
8.如权利要求7所述的量测装置,其中,所述第一光栅与所述第二光栅具有不同的线宽和/或不同的相位深度。
9.如权利要求5所述的量测装置,其中,所述离轴照射产生器包括至少一个可变衰减器,所述至少一个可变衰减器位于所产生的照射束中的至少一个照射束的路径中,使得所产生的照射束的强度被平衡。
10.如权利要求4所述的量测装置,其中,所述离轴照射产生器包括多个分束器和反射器部件,所述多个分束器和反射器部件被布置为从所述单束非相干辐射产生四个相同的照射束,并且所述多个分束器和反射器部件被布置为使得每一个照射束内的不同波长具有共享入射照射角度。
11.如前述任一项权利要求所述的量测装置,其中,每一个照射束位于所述照射光瞳中,使得在由周期性结构散射所述测量照射之后,在所述量测装置的检测光瞳中针对每一个照射束捕获对应的较高衍射阶。
12.如权利要求11所述的量测装置,其中,所述多个照射束针对每个所考虑的测量方向包括一对照射束,并且所捕获的对应的较高衍射阶针对每一个方向包括互补的较高衍射阶。
13.如权利要求12所述的量测装置,其中,针对所有所述多个照射束,每个对应的光瞳点集合中的光瞳点相对于彼此是空间相干的。
14.如权利要求12所述的量测装置,其中,仅对于与所述所考虑的测量方向中的单个方向相对应的每一对照射束,每个对应的光瞳点集合中的光瞳点相对于彼此是空间相干的。
15.如权利要求11或12所述的量测装置,其中,所述量测装置能够在暗场配置中操作,以便不检测零阶散射辐射。
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