[发明专利]量测方法及其装置在审
| 申请号： | 201980061872.X | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN113168103A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | A·J·登博夫;K·博哈塔查里亚;森崎健史;S·G·J·马斯杰森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方法 及其 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种测量制造工艺的参数的方法，包括：
利用辐射照射目标；
检测来自所述目标的经散射的辐射；
根据所检测到的辐射的不对称性确定感兴趣的所述参数。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述不对称性被计算为所测量的信号的积分。
3.一种测量制造工艺的参数的方法，包括：
利用来自光学仪器的辐射源的辐射来照射目标；
其中所述目标利用所述制造工艺被制作；
其中所述辐射关于轴线具有对称性，所述轴线例如是所述光学仪器的光学轴线。
4.一种适合用于量测的目标，包括：
在第一层中的第一结构；
在第二层中的第二结构；
其中所述第二结构包括至少两个光刻形成的光栅；以及
其中所述第一结构至少包括第一光刻形成的开口。
5.根据权利要求4所述的目标，其中所述第一结构的所述开口是V形槽。
6.根据权利要求4所述的目标，其中所述第二结构的所述光栅是2个纵向栅条。
7.一种用于量测的目标，包括V形槽结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980061872.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
