[发明专利]框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法在审
申请号: | 201980062038.2 | 申请日: | 2019-10-07 |
公开(公告)号: | CN112740438A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 李裕进 | 申请(专利权)人: | 悟勞茂材料公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/00;G03F7/20;G03F7/16;C23C14/24;C23C14/04 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 框架 体型 制造 方法 | ||
本发明涉及框架一体型掩模与框架一体型掩模的制造方法。本发明涉及的框架一体型掩模由多个掩模(100)与用于支撑掩模(100)的框架(200)形成为一体,其中框架(200)包括:边缘框架部(210),其包括中空区域(R);掩模单元片材部(220),其具有多个掩模单元区域(CR)且连接于边缘框架部(210),各个掩模由经轧制(rolling)工艺制造的金属片材(sheet)构成,各个掩模(100)连接于掩模单元片材部(200)的上部。
技术领域
本发明涉及框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。更详细地,本发明涉及一种能够使掩模与框架形成一体且使各个掩模之间准确对准(align)的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
背景技术
作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术,主要使用FMM(FineMetal Mask,精细金属掩模)方法,该方法将薄膜形式的金属掩模(Shadow Mask,阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。
在现有的OLED制造工艺中,将掩模制造成条状、板状等后,将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具备与一个显示器对应的多个单元。另外,为了制造大面积OLED,可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架,在固定于框架的过程中,拉伸各个掩模,以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是,为了使各个单元全部变得平坦,同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案,需要微调施加到掩模各侧的拉伸力并且实时确认对准状态的高度作业要求。
尽管如此,在将多个掩模固定于一个框架过程中,仍然存在掩模之间以及掩模单元之间对准不好的问题。另外,在将掩模焊接固定于框架的过程中,掩模膜的厚度过薄且面积大,因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题。
在超高清的OLED中,现有的QHD(Quarter High Definition,四分之一高清)画质为500-600PPI(pixel per inch,每英寸像素),像素的尺寸达到约30-50μm,而4K UHD(Ultra High Definition,超高清)、8K UHD高清具有比之更高的~860PPI,~1600PPI等的分辨率。如此,考虑到超高清的OLED的像素尺寸,需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm程度,超出这一误差将导致产品的不良,收率可能极低。因此,需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对准精确的技术,以及将掩模固定于框架的技术等。
发明内容
技术问题
因此,本发明是为了解决上述现有技术中的问题而提出的,其目的在于,提供一种能够形成掩模与框架的一体式结构的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
另外,本发明的目的在于,提供一种能够防止掩模下垂或者扭曲等变形且使对准精确的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
另外,本发明的目的在于,提供一种显著缩短制造时间且显著提升收率的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
技术方案
本发明的上述目的通过一种框架一体型掩模实现,,其由多个掩模及用于支撑掩模的框架形成为一体,其中,框架包括:边缘框架部,其包括中空区域;以及掩模单元片材部,其具有多个掩模单元区域且连接于边缘框架部,各个掩模由经轧制(rolling)工艺制造的金属片材(sheet)构成,各个掩模连接于掩模单元片材部的上部。
掩模单元片材部沿第一方向、垂直于第一方向的第二方向中的至少一个方向可具有多个掩模单元区域。
掩模单元片材部可包括:边缘片材部;至少一个第一栅格片材部,其沿第一方向延伸形成且两端连接于边缘片材部;以及至少一个第二栅格片材部,其沿着垂直于第一方向的第二方向延伸形成并与第一栅格片材部交叉,且两端连接至边缘片材部。
各个掩模可以与各个掩模单元区域对应。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择