[发明专利]用于衰减全反射光谱的校准系统

权利要求书

1.一种扫描仪，包括：

ATR物镜，其包括：

第一光学元件，其包括反射面，所述反射面由临界角表征；和

光学端口，其适于接收第一光束，并将所述第一光束聚焦到由所述反射面上的位置和波长表征的点，使得所述第一光束被所述反射面反射，并且所述第一光束没有任何部分以大于所述临界角的角度撞击所述反射面；

检测器，其测量从所述反射面反射的光的强度；

扫描系统，其控制所述位置；和

控制器，其控制所述扫描系统，并确定作为所述位置的函数的入射到所述反射面上的光的强度以及作为所述反射面上的位置的函数的从所述反射面反射的光的强度。

2.根据权利要求1所述的扫描仪，其中，所述波长由所述控制器确定。

3.根据权利要求1所述的扫描仪，其中所述扫描系统接收第二光束并将所述第二光束转换成所述第一光束。

4.根据权利要求1所述的扫描仪，其中所述控制器存储所述反射面的衰减图，所述衰减图提供作为所述波长的函数的所述反射面上每个点的衰减值，所述波长假设多个不同的值。

5.根据权利要求4所述的扫描仪，其中所述控制器根据在所述反射面接触样本之前撞击所述反射面上的校准位置的光强度的测量结果和所述衰减图来确定撞击所述反射面的光强度。

6.根据权利要求5所述的扫描仪，其中所述控制器针对所述第二光束的多个不同波长重复所述光强度的所述确定。

7.根据权利要求5所述的扫描仪，其中所述控制器适于在所述样本已经与所述反射面接触之后确定所述反射面上不与所述样本接触的位置。

8.根据权利要求7所述的扫描仪，其中在所述反射面上的另一个位置与所述样本接触的同时，所述控制器根据撞击在所述反射面上不与所述样本接触的位置上的光的强度的测量结果来确定撞击所述反射面的光的强度。

9.根据权利要求1所述的扫描仪，进一步包括：

光源，其产生所述第一光束，所述扫描仪由所述光源与所述ATR物镜之间的第一光学路径以及沿着所述第一光学路径的第一气体环境表征；和

校准系统，其接收所述第一光束并沿着校准路径引导所述第一光信号，并且将所述第一光信号返回到所述检测器，所述校准路径具有分别与所述第一光学路径和所述第一气体环境基本相同的光学路径长度和气体环境。

10.一种用于校准扫描仪的方法，所述扫描仪包括：光学元件，其包括反射面，所述反射面由临界角表征，光学端口，其适于接收由波长表征的第一光束，并使所述第一光束撞击以所述反射面上的位置表征的测量点，使得所述第一光束被所述反射面反射，并且所述第一光束没有任何部分以大于所述临界角的角度撞击所述反射面；检测器，其适于测量从所述测量点反射的光的强度；和控制器，其适于控制所述位置，所述方法包括：

使所述控制器针对多个不同波长确定作为所述测量点的所述位置的函数的入射到所述反射面上的光的强度以及作为在所述反射面上的位置的函数的从所述反射面反射的光的强度；以及

使所述控制器确定所述反射面的衰减图，所述衰减图提供作为所述第一光束的所述波长的函数的所述反射面上每个点的衰减值。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述控制器根据在所述反射面接触样本之前撞击所述反射面上的校准位置的光强度的测量结果和所述衰减图来确定撞击所述反射面的光强度。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述控制器针对多个不同波长重复所述光强度的所述确定。

13.根据权利要求12所述的方法，其中使所述控制器在所述样本已经与所述反射面接触之后确定所述反射面上不与所述样本接触的位置。