[发明专利]解析装置、解析方法及解析程序

说明书

为了解析对受测器件进行测量而得的复数个测量值，并有效地利用解析得到的信息，提供一种解析装置，其具备：取得部，其取得复数个测量值，所述复数个测量值是经由治具对受测器件进行测量而得的；解析部，其解析复数个测量值并算出变动数据，所述变动数据表示与治具接触受测器件的接触次数对应的测量值的变动；以及，管理部，其基于变动数据来管理治具的状态。

技术领域

本发明关于解析装置、解析方法及解析程序。

背景技术

先前已知有一种试验装置，其在要对受测器件进行测量时，使治具接触受测器件来实行测量。

发明所要解决的问题

然而，对受测器件进行测量的测量系统的状态并非时常维持恒定，会因为各种要素而变动。因此，希望能够对从测量系统获得的信息进行解析来管理测量系统。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的第1方面提供一种解析装置。解析装置可具备取得部，其取得复数个测量值，所述复数个测量值是经由治具对受测器件进行测量而得的。解析装置可具备解析部，其解析复数个测量值并算出变动数据，所述变动数据表示与治具接触受测器件的接触次数对应的测量值的变动。解析装置可具备管理部，其基于变动数据来管理治具的状态。

取得部可取得在受测器件中的不同位置处所测量到的复数个测量值；解析部可从复数个测量值将位置依存成分分离出来，并抽出与接触次数对应的测量值的变动，所述位置依存成分依存于受测器件中的测量位置。

位置依存成分可包含从受测器件的中心同心圆状地变化的成分。

位置依存成分在将受测器件配置于坐标平面上的情况下，可包含以下成分中的至少其中一者：依存于坐标平面中的其中一方的坐标轴方向的成分、及依存于坐标平面中的另一方的坐标轴方向的成分。

受测器件可为形成有复数个器件区域的晶圆；取得部可取得以下测量值中的至少其中一者：对器件区域个别地进行测量而得的复数个测量值、及对包含复数个器件区域的区域区块个别地进行测量而得的复数个测量值。

取得部可取得利用治具中的不同位置对复数个受测器件进行测量而得的复数个测量值；解析部可从复数个测量值将位置依存成分分离出来，并抽出与接触次数对应的测量值的变动，该位置依存成分依存于治具中的测量位置。

还可具备机器学习部，其使用复数个测量值，通过机器学习来学习位置依存成分的模型；解析部可将位置依存成分分离出来，且所述位置依存成分是使用已通过机器学习部学习到的模型来算出的。

解析部可解析复数个测量值并推测治具的接触电阻；管理部可基于解析部所推测出的治具的接触电阻来管理治具的状态。

解析部可解析复数个测量值并算出与接触次数对应的接触电阻的分散状况；管理部可基于通过解析部所算出的与接触次数对应的接触电阻的分散状况，来管理治具的状态。

管理部可基于变动数据来决定治具的清洁时期及治具的更换时期的至少其中一者。

本发明的第2方面提供一种解析方法，其为解析装置进行解析的解析方法。解析方法可具备以下步骤：解析装置取得复数个测量值，所述复数个测量值是经由治具对受测器件进行测量而得的。解析方法可具备以下步骤：解析装置解析复数个测量值并产生变动数据，所述变动数据表示与治具接触受测器件的接触次数对应的测量值的变动。解析方法可具备以下步骤：解析装置基于变动数据来管理治具的状态。

本发明的第3方面提供一种解析程序。解析程序可通过计算机来执行。解析程序可使计算机作为以下构件来发挥功能：取得部，其取得复数个测量值，所述复数个测量值是经由治具对受测器件进行测量而得的。解析程序可使计算机作为以下构件来发挥功能：解析部，其解析复数个测量值并产生变动数据，所述变动数据表示与治具接触受测器件的接触次数对应的测量值的变动。解析程序可使计算机作为以下构件来发挥功能：管理部，其基于变动数据来管理治具的状态。