[发明专利]从图案化过程的图案集合确定候选图案的方法在审
申请号: | 201980062893.3 | 申请日: | 2019-09-20 |
公开(公告)号: | CN112740110A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | V·维拉恩基;M·C·西蒙 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 过程 集合 确定 候选 方法 | ||
1.一种从图案化过程的图案集合确定候选图案的方法,所述方法包括:
获得(i)图案化过程的图案集合、(ii)具有第一特征和第二特征的搜索图案、和(iii)包括介于所述搜索图案的所述第一特征与所述第二特征之间的相对位置的第一搜索条件;和
经由处理器从所述图案集合确定满足与所述搜索图案的所述第一特征和所述第二特征相关联的所述第一搜索条件的候选图案的第一集合。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述相对位置被限定在所述搜索图案的所述第一特征的元件与所述第二特征的元件之间。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述元件包括相应特征的边缘和/或顶点。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一搜索条件还包括与所述特征的元件之间的相对位置和/或所述特征的尺寸相关联的公差极限。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一特征和所述第二特征位于相同层上。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一特征和所述第二特征位于不同层上。
7.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括:
获得围绕所述搜索图案的边界框以及与所述边界框和所述搜索图案的特征相关联的第二搜索条件;和
经由所述处理器,从所述候选图案的第一集合确定满足与所述边界框相关联的所述第二搜索条件的候选图案的第二集合。
8.根据权利要求7所述的方法,其中所述第二搜索条件包括所述搜索图案的特征的边缘与所述边界框的边缘之间的相对位置,和/或
其中所述相对位置是所述搜索图案的特征的边缘与所述边界框的边缘之间的距离、和/或角度。
9.根据权利要求7所述的方法,其中所述第二搜索条件还包括与所述搜索图案的特征的元件和所述边界框之间的相对位置相关联的公差极限。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二搜索条件与所述搜索图案的最靠近于所述边界框的特征相关联。
11.根据权利要求1所述的方法,其中确定所述候选图案的第二集合还包括:
比较所述搜索图案的特征的一个或更多个参数与所述图案集合的特征的相对应的一个或更多个参数。
12.根据权利要求11所述的方法,其中所述一个或更多个参数包括以下中的至少一个:
所述特征的边缘;
所述特征的大小;和
所述特征的形貌。
13.根据权利要求1所述的方法,其中确定所述候选图案的第二集合还包括:
基于所述第二搜索条件来调整围绕所述搜索图案的边界框;和
从所述候选图案的第一集合确定满足与调整后的边界框相关联的所述第二搜索条件的所述候选图案的第二集合。
14.根据权利要求13所述的方法,其中调整所述边界框包括:
相对于所述图案集合中的图案的特征的大小的增加和/或减小以及所述第二搜索条件,增加和/或减小所述边界框的大小。
15.根据权利要求1所述的方法,其中所述图案集合是设计图案;和/或所印制的衬底的图案的图像;和/或所述衬底的模拟图案。
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