[发明专利]杂芳基唑化合物及有害生物防除剂

权利要求书

1.式(I)所示的化合物、其N-氧化物化合物、立体异构体、互变异构体、水合物或它们的盐，

【化学式1】

式(I)中，

A为CH或氮原子，

B¹为CX¹或氮原子，

X¹、X²及X³各自独立地为氢原子、取代或未取代的C1～6烷基、取代或未取代的C2～6烯基、取代或未取代的C2～6炔基、羟基、取代或未取代的C1～6烷氧基、取代或未取代的C1～6烷氧基羰基、甲酰基、取代或未取代的C1～6烷基硫基、取代或未取代的C1～6烷基亚磺酰基、取代或未取代的C1～6烷基磺酰基、取代或未取代的C3～8环烷基、取代或未取代的C6～10芳基、取代或未取代的3～6元杂环基、取代或未取代的C6～10芳基氧基、取代或未取代的5～6元杂芳基氧基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的氨基羰基、取代或未取代的肼基、硝基、氰基、卤代基、式：-CR³＝N-OR⁴所示的基团、式：-N＝CHNR⁵R⁶所示的基团、或者式：-N＝S(O)_qR⁷R⁸所示的基团，

R³及R⁴各自独立地为氢原子、C1～6烷基或C1～6卤代烷基，

R⁵、R⁶、R⁷及R⁸为C1～6烷基，

q为0或1，

R¹为取代或未取代的C1～6烷基硫基、取代或未取代的C1～6烷基亚磺酰基、或者取代或未取代的C1～6烷基磺酰基，

R²为取代或未取代的C1～6烷基，

R为取代或未取代的C1～6烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物、其N-氧化物化合物、立体异构体、互变异构体、水合物或它们的盐，其中，式(I)为式(II)，

【化学式2】

式(II)中，

R¹、R²及R表示与式(I)中的R¹、R²及R同样的含义，

X为取代或未取代的C1～6烷基、取代或未取代的C2～6烯基、取代或未取代的C2～6炔基、羟基、取代或未取代的C1～6烷氧基、取代或未取代的C1～6烷氧基羰基、甲酰基、取代或未取代的C1～6烷基硫基、取代或未取代的C1～6烷基亚磺酰基、取代或未取代的C1～6烷基磺酰基、取代或未取代的C3～8环烷基、取代或未取代的C6～10芳基、取代或未取代的3～6元杂环基、取代或未取代的C6～10芳基氧基、取代或未取代的5～6元杂芳基氧基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的氨基羰基、取代或未取代的肼基、硝基、氰基、卤代基、式：-CR³＝N-OR⁴所示的基团、式：-N＝CHNR⁵R⁶所示的基团、或式：-N＝S(O)_qR⁷R⁸所示的基团，

R³及R⁴各自独立地为氢原子、C1～6烷基或C1～6卤代烷基，

R⁵、R⁶、R⁷及R⁸为C1～6烷基，

q为0或1，

n表示化学上所允许的X的个数、并且是0～3中的任一整数，n为2以上时，X可以彼此相同或不同。

3.根据权利要求1所述的化合物、其N-氧化物化合物、立体异构体、互变异构体、水合物或它们的盐，其中，式(I)为式(III)，

【化学式3】

式(III)中，

A、R¹、R²及R表示与式(I)中的A、R¹、R²及R同样的含义，

X表示与式(II)中的X同样的含义。