[发明专利]光电转换元件及其制造方法在审
申请号: | 201980064003.2 | 申请日: | 2019-09-26 |
公开(公告)号: | CN112771685A | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | G·费拉拉;西美树 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | H01L51/46 | 分类号: | H01L51/46;H01L27/146;H01L27/30;H01L51/42;H01L51/44 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于洁;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 转换 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种光电转换元件,其包含:阳极;阴极;设置于该阳极和阴极间的有源层;以及设置于该有源层和所述阴极间的至少一层电子传输层,
所述至少一层电子传输层中的一层包含绝缘性材料和半导体材料,该一层的功函数Wf1和所述阴极的功函数Wf2满足下述式(1),
Wf2-Wf1≥0.88eV (1)。
2.如权利要求1所述的光电转换元件,其中,
所述有源层包含p型半导体材料和n型半导体材料,
所述电子传输层的功函数Wf1和所述n型半导体材料的LUMO的能级LUMO满足下述式(2),
|LUMO|-Wf1≥0.06eV (2)。
3.如权利要求1或2所述的光电转换元件,其中,所述n型半导体材料为富勒烯衍生物。
4.如权利要求3所述的光电转换元件,其中,所述富勒烯衍生物为C60PCBM。
5.如权利要求1~4中任一项所述的光电转换元件,其中,所述绝缘性材料的功函数Wf3、所述电子传输层的功函数Wf1和所述半导体材料的功函数Wf4满足下述式(3)和下述式(4),
Wf3>Wf1 (3)
Wf3<Wf4 (4)。
6.如权利要求1~5中任一项所述的光电转换元件,其中,所述半导体材料为选自由ZnO、AZO和GZO组成的组中的一种以上的氧化物半导体材料。
7.如权利要求1~6中任一项所述的光电转换元件,其中,所述绝缘性材料为具有氨基或烷氧基的聚合物。
8.如权利要求7所述的光电转换元件,其中,所述绝缘性材料为乙氧基化聚亚乙基亚胺。
9.如权利要求1~8中任一项所述的光电转换元件,其中,所述电子传输层是通过对涂布膜进行干燥处理使其固化而得到的层,该涂布膜包含所述绝缘性材料、所述半导体材料和沸点为68℃以上的溶剂。
10.如权利要求9所述的光电转换元件,其中,所述溶剂包含pKa为15.5以上的醇溶剂。
11.如权利要求10所述的光电转换元件,其中,所述醇溶剂包含选自由乙醇、2-丙醇和3-戊醇组成的组中的一种以上的醇溶剂。
12.如权利要求1~11中任一项所述的光电转换元件,其中,所述光电转换元件为光检测元件。
13.一种图像传感器,其包含权利要求12所述的光电转换元件。
14.一种指纹识别装置,其包含权利要求12所述的光电转换元件。
15.一种光电转换元件的制造方法,其为权利要求1所述的光电转换元件的制造方法,其包括下述工序:
涂布包含所述绝缘性材料、所述半导体材料和沸点为68℃以上的溶剂的涂布液而形成涂布膜,通过对该涂布膜进行干燥处理使其固化,形成所述电子传输层。
16.如权利要求15所述的光电转换元件的制造方法,其中,所述半导体材料为选自由ZnO、AZO和GZO组成的组中的一种以上的氧化物半导体材料。
17.如权利要求15或16所述的光电转换元件的制造方法,其中,所述绝缘性材料为具有氨基或烷氧基的聚合物。
18.如权利要求17所述的光电转换元件的制造方法,其中,所述绝缘性材料为乙氧基化聚亚乙基亚胺。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择