[发明专利]染发料组合物在审

专利信息
申请号: 201980064041.8 申请日: 2019-07-29
公开(公告)号: CN112770721A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 荐田刚;住吉美弥 申请(专利权)人: 朋友株式会社
主分类号: A61K8/81 分类号: A61K8/81;A61K8/34;A61Q5/10
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;洪欣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 染发 组合
【说明书】:

本公开提供一种染发料组合物,其能够减少从染发料的涂布过程中到放置期间中产生的对使用者的周边或衣物、皮肤等的污染且能够提高染发性。染发料组合物含有:(A)具有选自吡咯烷酮骨架以及己内酰胺骨架中的至少一个骨架的高分子化合物;(B)碳数为1~4的一元醇;(C)芳香族醇;以及(D)直接染料,并且染发料组合物中的(B)成分的调配量大于25质量%且为60质量%以下。

技术领域

本公开涉及染发料组合物,尤其涉及含有直接染料的染发料组合物。

背景技术

含有直接染料的染发料组合物一般作为半永久性染发料而用于各种染色剂。另一方面,还已知有如下氧化型染发剂:通过碱剂的作用而使氧化燃料渗透到毛发的角质层内部,并通过氧化剂进行黑色素的分解和染料的显色。半永久性染发料具有与氧化型染发剂相比能够抑制对毛发产生的损害的优点,而另一方面,半永久性染发料的染发能力却比氧化型染发剂弱。此外,半永久性染发料从染发过程中到放置期间中容易附着在使用者的周边或衣物、皮肤等处从而容易造成污染(以下将涂布到毛发的染发料容易附着在使用者的周边或衣物、皮肤等处的程度称为移染性。)。因此,在使用半永久性染发料时,为了不会引起染发料附着在除毛发以外的部位处而需要事先防备并谨慎操作,从而容易给使用者造成负担。

鉴于上述问题提出了以下染发料组合物的技术方案。专利文献1中记载了含有特定的多糖类以及特定的高分子化合物的染发料组合物在涂布于毛发上时不会滴落。此外,专利文献2中记载了通过含有特定的醇作为染发助剂而降低在染发时对皮肤的染色性,并对毛发发挥良好的染发性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4598930号公报

专利文献2:日本特开2000-344639号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

然而,根据发明人的研究,在上述专利文献中记载的染发料组合物仍未充分地达成其目的性能,从而要求在降低移染性的同时进一步提高染发性。

因此,本公开的一个方面的目的在于提供一种染发料组合物,其能够减少从染发料的涂布过程中到放置期间中产生的对使用者的周边或衣物、皮肤等的污染且能够提高染发性。

解决问题的技术方案

本公开的一个方案的染发料组合物含有:(A)具有选自吡咯烷酮骨架以及己内酰胺骨架中的至少一个骨架的高分子化合物;(B)碳数为1~4的一元醇;(C)芳香族醇;以及(D)直接染料,并且染发料组合物中的(B)成分的调配量大于25质量%且为60质量%以下。

在本公开的一个方案中,染发料组合物中的(A)成分的调配量可以为0.1质量%以上且小于5.0质量%。

在本公开的一个方案中,染发料组合物中的(A)成分的调配量相对于染发料组合物中的(C)成分的调配量的比(A)/(C)可以为0.01以上且1以下。

在本公开的一个方案中,所述染发料组合物中的(A)成分的调配量相对于染发料组合物中的(D)成分的调配量的比(A)/(D)可以为0.1以上且8以下。

在本公开的一个方案中,(A)成分可以是非离子型高分子化合物。

在本公开的一个方案中,(A)成分可以含有选自聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯己内酰胺、(乙烯基吡咯烷酮/甲基丙烯酰胺/乙烯基咪唑)共聚物、以及(乙烯基吡咯烷酮/乙酸乙烯酯)共聚物中的至少一种。

在本公开的一个方案中,还可以含有(E)成分,(E)成分选自烷基葡糖苷、聚醚改性硅酮、以及HLB值为9以上且15以下的聚氧乙烯(以下记为“POE”)烷基醚中的至少一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朋友株式会社,未经朋友株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980064041.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top