[发明专利]聚烯烃膜及脱模用膜

说明书

本发明以提供脱模性、品质优异的聚烯烃膜作为课题。本发明的聚烯烃膜的至少一面(A面)的平均粗糙度Sa为65～600nm，上述A面的山高度Sp与A面的谷深度Sv之比即Sp/Sv的值为2.5以下，雾度为30％以下。

技术领域

本发明涉及脱模性、品质优异的、可以作为脱模用膜而适合使用的聚烯烃膜。

背景技术

聚烯烃膜由于透明性、机械特性、电气特性等优异，因此在以包装用途、脱模用途、带用途、电缆绕包、电容器为代表的电气用途等各种用途中被使用。特别是，由于表面的脱模性、机械特性优异，因此适合作为塑料制品、建材、光学构件等各种构件的脱模用膜、工序膜使用。

对脱模用膜所要求的特性根据其使用用途来适当设定，但近年来，有时作为感光性树脂等具有粘着性的树脂层的覆盖膜而使用。在覆盖具有粘着性的树脂层的情况下，如果覆盖膜的脱模性差，则有时在剥落时不能干净地剥离，作为保护面的树脂层的形状变化，或在保护面残留剥离痕。因此，有时使用通过将膜表面粗面化，减少与树脂层的接触面积，从而使脱模性提高的方法。然而，如果提高覆盖膜表面的粗度，则易于形成粗大突起，例如在作为光学用构件的脱模膜而使用时，有时膜的表面凹凸转印于光学用构件而对制品的视认性造成影响。基于以上情况，为了在光学构件等要求特性高的脱模膜中使用，有时要求不形成粗大突起，均匀并且微细地粗面化了的、兼备脱模性、品质的膜。

作为粗面化的手段，例如在专利文献1、2中记载了通过形成作为聚丙烯的晶形之一的β晶的球晶并进行拉伸，从而在膜表面形成凹坑(crater)而粗面化，并提高了工序输送性的例子。此外，在专利文献3中记载了在膜内添加粒子，进行单轴拉伸，从而粗面化，并提高了工序输送性的例子。此外，在专利文献4中记载了在膜的内层添加粒子，进行拉伸从而粗面化了的例子。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2016/006578号

专利文献2：日本特开2017-125184号公报

专利文献3：日本特开2005-138386号公报

专利文献4：日本专利第6115687号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，对于上述专利文献1、2所记载的方法，存在表面粗糙度不充分的问题。此外专利文献3所记载的方法也同样地表面粗糙度不充分。进一步专利文献4所记载的方法有时由于硬度高的粒子而形成粗大突起，凹凸转印到光学用构件的树脂层。

因此本发明的课题是解决上述问题。即，提供脱模性、品质优异的聚烯烃膜。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，达到目的，本发明的聚烯烃膜，其特征在于，至少一面(A面)的平均粗糙度Sa为65～500nm，A面的山高度Sp与谷深度Sv之比即Sp/Sv的值为2.5以下，膜的雾度为30％以下。

发明的效果

本发明的聚烯烃膜由于脱模性、耐热性、品质优异，因此可以适合作为脱模用膜使用。

具体实施方式

本发明的聚烯烃膜的至少一面(A面)的平均粗糙度Sa为65～600nm，上述A面的山高度Sp与A面的谷深度Sv之比即Sp/Sv的值为2.5以下，雾度为30％以下。