[发明专利]转印膜、固化膜的制造方法、层叠体的制造方法、及触摸面板的制造方法在审
申请号: | 201980065641.6 | 申请日: | 2019-09-10 |
公开(公告)号: | CN112789166A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 丰冈健太郎;霜山达也 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B7/06 | 分类号: | B32B7/06;B32B27/20;G06F3/041 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转印膜 固化 制造 方法 层叠 触摸 面板 | ||
1.一种转印膜,其满足下述(1)及(2)中的至少一个,
(1)具有临时支承体和包含聚合性化合物、聚合引发剂及树脂的第一透明层,所述第一透明层含有包含氧化钛和氧化锡的金属氧化物粒子;
(2)具有临时支承体、包含聚合性化合物、聚合引发剂及树脂的第一透明层及第二透明层,所述第二透明层含有包含氧化钛和氧化锡的金属氧化物粒子。
2.根据权利要求1所述的转印膜,其满足所述(2)。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜,
所述金属氧化物粒子中的所述氧化钛含有金红石型氧化钛。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜,其中,
所述金属氧化物粒子的平均一次粒径为10nm以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜,其中,
在所述金属氧化物粒子中,所述氧化锡的含量相对于所述氧化钛的含量为5质量%以上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜,其中,
所述金属氧化物粒子还包含除了所述氧化钛及所述氧化锡以外的无机氧化物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜,其中,
含有所述金属氧化物粒子的层还含有硅烷偶联剂或钛偶联剂。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜,其为触摸面板中的保护膜形成用转印膜。
9.一种固化膜的制造方法,其包含:
在支承体上至少转印权利要求1至8中任一项所述的转印膜中的所述第一透明层的工序;以及
将所述第一透明层的至少一部分进行固化而形成固化膜的工序。
10.一种层叠体的制造方法,其包含:
在具有电极的基板上至少转印权利要求1至8中任一项所述的转印膜中的所述第一透明层的工序;以及
将所述第一透明层的至少一部分进行固化而形成固化层的工序。
11.根据权利要求10所述的层叠体的制造方法,其中,
所述电极为静电电容型输入装置的电极。
12.一种触摸面板的制造方法,其包括以下工序:
准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的结构的触摸面板用基板的工序;
在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的一侧的面上,使用权利要求1至8中任一项所述的转印膜来形成感光性层的工序;
将在所述触摸面板用基板上形成的所述感光性层进行图案曝光的工序;以及
使经图案曝光的所述感光性层显影,由此获得保护所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分的触摸面板用保护膜的工序。
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