[发明专利]化妆料

说明书

本发明涉及一种包含(A)具有特定的化学结构、室温下液态的羧酸改性硅酮；以及(B)油剂的化妆料。本发明的化妆料予以具有优异耐水性的化妆膜且能通过通常的肥皂和水容易地去除。

技术领域

本发明涉及一种能提供耐水性高且清洗容易的化妆膜的化妆料。

背景技术

包含油剂的化妆料能提供耐水性优异的化妆膜，因此，例如被广泛用作防晒霜剂或粉底、眼影等彩妆(make up)化妆料。

另一方面，为了从皮肤等去除由这样的化妆料得到的化妆膜，仅利用水和肥皂是困难的，通常需要使用油性的清洁剂。使用这样的油性的清洁剂是复杂的，此外，在费用上也不利。

需要说明的是，在日本特开2013-144655号公报中记载了包含羧基癸基三硅氧烷的油包水型乳化化妆料，但羧基癸基三硅氧烷的使用目的在于抑制由疏水性粉体导致的不适感，此外，提高对皮肤的亲和性的良好程度或无发粘的程度，并没有记载将羧酸改性硅酮用于提高化妆膜的去除性。此外，在日本特开2013-177370号公报中记载了包含特定结构的羧酸改性硅酮的油包水型乳化化妆料和油性化妆料，但特定羧酸改性硅酮的使用目的在于，在不挥发性油分少量且粉体成分以充分量配合的化妆料中，抑制随着挥发性油分的挥发的粗糙感的产生，并没有记载将羧酸改性硅酮用于提高化妆膜的去除性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-144655号公报

专利文献2：日本特开2013-177370号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明的目的在于，提供一种予以具有优异耐水性的化妆膜且能通过通常的肥皂和水容易地去除的化妆料。

用于解决问题的方案

本发明的目的通过如下化妆料来实现，其包含下述的成分：

(A)由下述结构式(1)表示的室温25℃下液态的羧酸改性硅酮；以及

(B)油剂。

[化学式1]

(式中，

Rc表示通式-R¹-(OR²)p-(O)w-R³-COOH所示的含羧基的有机基团，其中，R¹表示碳原子数2～22的直链或支链的亚烷基，R²表示碳原子数2～4的直链或支链的亚烷基，R³表示键合键(-)或碳原子数1～22的直链或支链的亚烷基，p表示0～200的数，w表示0或1的数，

R相同或不同，表示碳原子数1～22的烷基或烷氧基、或苯基，

R'为Rc或R，

a为0以上的数，b为正数，a+b为2～30的范围的数。)

优选的是，在所述结构式(1)中，a、b均为正数，a+b为2～20的范围的数，a/b为0.3～3.0。

就本发明的化妆料而言，优选的是，以0.1～10质量％的范围包含所述(A)羧酸改性硅酮。

需要说明的是，在本说明书中的“质量％”与“重量％”同义，其基准只要没有特别记载，则为本发明的化妆料的总质量(总重量)。

优选的是，所述(B)油剂包含至少一种紫外线吸收剂。

就本发明的化妆料而言，优选的是，以5～99质量％的范围包含所述(B)油剂。