[发明专利]钴配合物、其制造方法、以及含钴薄膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201980067199.0 申请日: 2019-11-08
公开(公告)号: CN112839924B 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 尾池浩幸;早川哲平;山本有纪;古川泰志;多田贤一 申请(专利权)人: 东曹株式会社;公益财团法人相模中央化学研究所
主分类号: C07C251/12 分类号: C07C251/12;C07F15/06;C07F19/00;C07C49/12;C07F7/10;C23C16/18
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 配合 制造 方法 以及 薄膜
【权利要求书】:

1.一种钴络合物,其由下述式(1AB)表示,

式(1AB)中,R1及R2分别独立地表示碳原子数1~6的烷基或三(碳原子数1~6的烷基)甲硅烷基,

R3表示三(碳原子数1~6的烷基)甲硅烷基,R4及R5分别独立地表示碳原子数1~4的烷基,X表示碳原子数1~6的亚烷基。

2.根据权利要求1所述的钴络合物,其中,

R1、R2及R3为三(碳原子数1~4的烷基)甲硅烷基,R4及R5为甲基或乙基,X为碳原子数1~4的亚烷基。

3.根据权利要求1所述的钴络合物,其中,

R1、R2及R3为三甲基甲硅烷基,R4及R5为甲基或乙基,X为碳原子数1~4的亚烷基。

4.一种钴络合物,其由下述式(1AC)表示,

式(1AC)中,R1及R2分别独立地表示碳原子数1~6的烷基或三(碳原子数1~6的烷基)甲硅烷基,R6及R8分别独立地表示碳原子数1~6的烷基,R7表示氢原子或碳原子数1~4的烷基,Y表示氧原子或NR9,Z表示氧原子或NR10,R9及R10分别独立地表示碳原子数1~6的烷基。

5.根据权利要求4所述的钴络合物,其中,

R1及R2为三(碳原子数1~4的烷基)甲硅烷基,R6及R8为甲基,R7为氢原子,Y为NR9,Z为NR10,R9及R10为碳原子数1~4的烷基。

6.根据权利要求4所述的钴络合物,其中,

R1及R2为三甲基甲硅烷基,R6及R8为甲基,R7为氢原子,Y为NR9,Z为NR10,R9及R10为碳原子数1~4的烷基。

7.一种钴络合物,其由下述式(1BC)表示,

式(1BC)中,R3表示三(碳原子数1~6的烷基)甲硅烷基,R4及R5分别独立地表示碳原子数1~4的烷基,X表示碳原子数1~6的亚烷基,R6及R8分别独立地表示碳原子数1~6的烷基,R7表示氢原子或碳原子数1~4的烷基,Y表示氧原子或NR9,Z表示氧原子或NR10,R9及R10分别独立地表示碳原子数1~6的烷基。

8.根据权利要求7所述的钴络合物,其中,

R3为三(碳原子数1~4的烷基)甲硅烷基,R4及R5为甲基或乙基,X为碳原子数1~4的亚烷基,R6及R8为碳原子数1~4的烷基,R7为氢原子,Y及Z为氧原子。

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