[发明专利]由四氯硅烷和氢硅烷合成三氯硅烷在审

专利信息
申请号: 201980067208.6 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN112839904A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: N.奥纳;A.G.斯特姆 申请(专利权)人: 迈图高新材料公司
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 肖靖泉
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 硅烷 合成
【权利要求书】:

1.制备三氯硅烷(HSiCl3)的工艺,其包括使四氯硅烷(SiCl4)与至少一种氢硅烷在至少一种催化剂的存在下反应。

2.根据权利要求1所述的制备三氯硅烷(HSiCl3)的工艺,其中所述至少一种氢硅烷选自下式:

RnSiXmH4-n-m (1),

RoSi2XpH6-o-p (2),

其中

R为有机基团,

X为卤素或烷氧基,

n为0-3、优选1-3、更优选2,

m为0-2、优选0,和

n+m=0-3、优选1-3、更优选2,

o为0-5、优选1-5,

p为0-5、优选0,和

o+p=1-5。

3.根据前述权利要求任一项所述的工艺,其中

R选自芳族或具有最高达6个碳原子的脂族烃基团、优选地C1-C6烷基基团、更优选地C1-C4烷基基团、最优选地甲基基团,

X优选为氯或溴、更优选氯。

4.根据前述权利要求任一项所述的工艺,其中所述氢硅烷选自SiH4、H3SiCl、H2SiCl2、MeSiH3、Me3SiH、Me2SiH2、Et2SiH2、MeSiHCl2、Me2SiHCl、PhSiH3、Ph2SiH2、PhMeSiH2、iPr2SiH2、Hex2SiH2、tBu2SiH2、Me2Si(OEt)H、ViSiH3、ViMeSiH2、Me2HSi–SiHMe2、MeH2Si–SiH2Me、MeH2Si–SiHMe2、Me3Si–SiHMe2、Me3Si–SiH2Me、和H3Si–SiH3,优选地Me2SiH2

5.根据前述权利要求任一项所述的工艺,其中所述至少一种催化剂选自:

-一种或多种具有式R14QZ的化合物,其中R1独立地选自氢或者有机基基团、更优选地芳族基团或脂族烃基团、甚至更优选地正烷基基团、和最优选地正丁基基团,Q为磷、氮、砷、锑或铋,并且Z为卤素,

-一种或多种具有式R13P的膦,其中R1如以上定义,优选有机基基团;优选地PPh3或n-Bu3P,

-一种或多种具有式R13N的胺,其中R1如以上定义,优选有机基基团;优选地n-Bu3N或NPh3

-一种或多种N-杂环胺、优选非N取代的甲基咪唑,例如2-甲基咪唑和4-甲基咪唑,

-一种或多种碱金属卤化物,例如LiCl,和

-一种或多种碱土金属卤化物。

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