[发明专利]用于制造光学可变的防伪元件的方法

权利要求书

1.一种用于制造光学可变的防伪元件的方法，在所述方法中，

-提供载体，所述载体的面延伸定义了垂直地竖立在所述载体上的z轴，

-在面区域中将透明的印花漆层施加在所述载体上，

-在印花漆层中压印至少一个位于较低处的第一凸纹结构和位于较高处的第二凸纹结构，所述第一凸纹结构和第二凸纹结构沿着z方向相对于平面的载体布置在不同的高度等级中，

-为至少两个凸纹结构配设由非金属材料构成的非金属涂层，并且

-将所述非金属涂层选择性地从位于较高处的第二凸纹结构上取下，

其特征在于，

位于较低处的第一凸纹结构和位于较高处的第二凸纹结构分别由具有多个定向的微镜的微镜结构构成。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述非金属涂层从位于较高处的凸纹结构上取下，方式为将配设有凸纹结构的载体与受体薄膜接触，其中，位于较高处的凸纹结构的非金属涂层附着在所述受体薄膜上，并且接着取下所述受体薄膜，并且在此只从位于较高处的凸纹结构上移除非金属涂层。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述非金属涂层从位于较高处的凸纹结构上取下，方式为将配设有凸纹结构的载体在升高的压力和升高的温度中与受体薄膜接触。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在以非金属材料进行涂层之前为至少两个凸纹结构配设半透明的吸收层，并且将所述半透明的吸收层与非金属涂层共同地选择性地从位于较高处的凸纹结构上取下。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在取下非金属涂层之后为所述位于较高处的凸纹结构选择性地配设其它涂层。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在取下位于较高处的凸纹结构的非金属涂层和选择性的其它涂层之后为至少两个凸纹结构配设金属涂层。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，产生分别具有预设的最大行程高度的凸纹结构，并且至少两个高度等级的沿着z方向的距离选择为大于位于较低处的凸纹结构的预设的最大行程高度。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，产生具有3.5μm或者更小的最大行程高度的凸纹结构，并且至少两个高度等级的沿着z方向的距离选择为1μm至10μm之间。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，至少两个高度等级的沿着z方向的距离选择为3μm至7μm之间。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述定向的微镜是平面镜、凹面镜和/或菲涅耳镜，其中，所述定向的微镜的横向尺寸处于30μm以下。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述定向的微镜的横向尺寸处于10μm以下。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，提供透明的载体或者将所述载体能分离地与印花漆层连接，以便实现从印花漆层的这侧观察防伪元件。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将具有第一栅格区域和第二栅格区域的栅格压印到印花漆层中，所述第一栅格区域具有位于较低处的第一凸纹结构，所述第二栅格区域具有位于较高处的第二凸纹结构，其中，所述栅格区域的沿着一个或者两个横向的方向的尺寸处于140μm以下。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述栅格区域的沿着一个或者两个横向的方向的尺寸处于20μm至100μm之间。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述栅格区域的沿着一个或者两个横向的方向的尺寸处于20μm至60μm之间。