[发明专利]烹调用具在审

专利信息
申请号: 201980067586.4 申请日: 2019-11-01
公开(公告)号: CN112839551A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 西原孝典;百濑宏道;城丸智洋 申请(专利权)人: 京瓷株式会社;大金工业株式会社
主分类号: A47J36/02 分类号: A47J36/02;A47J37/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘文海
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 烹调 用具
【权利要求书】:

1.一种烹调用具,其特征在于,

所述烹调用具包括:基材,其在一方的主面侧具有烹调区域;以及涂膜层,其粘附在基材的一方的主面侧,

所述涂膜层包括配置于所述基材侧的底涂层、配置于最表面的外涂层、以及配置在所述底涂层与所述外涂层之间的至少一层中间层,且仅在所述外涂层中包含陶瓷颗粒,

在剖面观察的情况下,至少一部分所述陶瓷颗粒具有15μm以上且25μm以下的平均粒径,

在将所述陶瓷颗粒中的最大的陶瓷颗粒的最长直径设为b、将所述涂膜层的最薄的部分的厚度设为a的情况下,所述厚度a相对于所述最长直径b的比a/b大于2。

2.根据权利要求1所述的烹调用具,其中,

所述外涂层由氟系树脂形成。

3.根据权利要求1或2所述的烹调用具,其中,

所述陶瓷颗粒包含碳化硅作为主成分。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的烹调用具,其中,

所述烹调用具是平底锅、加热蒸汽烹调器用板或者烤箱用板。

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