[发明专利]抛光层用聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光层的改性方法有效
| 申请号： | 201980067771.3 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN112839985B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 砂山梓纱;加藤充;竹越穰;冈本知大;加藤晋哉 | 申请（专利权）人： | 株式会社可乐丽 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;C08G18/34;C08G18/38;C08G18/65;B24B37/24;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王轩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 聚氨酯 改性 方法 | ||
1.一种抛光层用聚氨酯，其具有羧酸酯基。
2.根据权利要求1所述的抛光层用聚氨酯，其在侧链、主链末端及主链骨架中的至少一者具有所述羧酸酯基。
3.根据权利要求1或2所述的抛光层用聚氨酯，其包含具有羧酸酯基的单体单元。
4.根据权利要求3所述的抛光层用聚氨酯，其至少包含(a)扩链剂单元、(b)高分子多元醇单元、以及(c)有机二异氰酸酯单元作为所述单体单元，所述(a)扩链剂单元及所述(b)高分子多元醇单元中的至少一者具有所述羧酸酯基。
5.根据权利要求4所述的抛光层用聚氨酯，其中，所述(a)扩链剂单元包含来自于选自酒石酸二酯、1-(叔丁氧羰基)-3-吡咯烷醇、以及2,4-二羟基苯甲酸甲酯中至少1种化合物的单体单元。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的抛光层用聚氨酯，其为热塑性聚氨酯。
7.一种抛光层，其包含权利要求1～6中任一项所述的抛光层用聚氨酯。
8.根据权利要求7所述的抛光层，其为所述抛光层用聚氨酯的非发泡成型体。
9.一种抛光层的改性方法，该方法包括：
准备抛光层的工序，所述抛光层包含具有羧酸酯基的聚氨酯；以及
使所述聚氨酯的所述羧酸酯基水解而生成羧酸基的工序。
10.一种抛光层，其包含具有羧酸基的热塑性聚氨酯的成型体，
所述抛光层在pH3.0～pH8.0下的zeta电位为-1.0mV以下。
11.根据权利要求10所述的抛光层，其与水的接触角为80度以下。
12.一种抛光垫，其包含权利要求7～11中任一项所述的抛光层。
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