[发明专利]用于替换坩埚的蒸发沉积系统

权利要求书

1.一种用于替换坩埚的蒸发沉积系统，包括：

真空腔室，所述真空腔室被配置为容纳基板；

蒸发源，所述蒸发源被配置为供应气相沉积材料至所述基板：

多个移动腔室，每个移动腔室被配置为沿着轨道移动并且被配置为容纳所述蒸发源；和

连接腔室，所述连接腔室被配置为将所述移动腔室和所述真空腔室连接，

其中每个所述移动腔室的前表面具有：第一开口，气相沉积材料通过所述第一开口移动至所述连接腔室中；和第一开关阀，所述第一开关阀打开和关闭所述第一开口。

2.如权利要求1所述的蒸发沉积系统，

其中所述连接腔室具有第一入口，所述移动腔室通过所述第一入口进出所述连接腔室，并且

其中第一接触构件设置在所述第一入口中，所述第一接触构件与所述移动腔室的外表面选择性地紧密接触。

3.如权利要求1至2中任一项所述的蒸发沉积系统，其中：

连接壳体在移动方向上分别耦接至每个所述移动腔室的两个端部；

所述多个移动腔室通过所述连接壳体连接以整体地移动；

所述连接腔室具有第一入口，所述移动腔室和所述连接壳体通过所述第一入口进出所述连接腔室；和

第一接触构件设置在所述第一入口中，所述第一接触构件与所述连接壳体的外表面紧密接触。

4.如权利要求3所述的蒸发沉积系统，

其中第二开口分别在所述移动方向上设置在每个所述移动腔室的两个端部中，并且

其中每个所述连接壳体具有打开和关闭所述第二开口的第二开关阀。

5.如权利要求4所述的蒸发沉积系统，其中所述蒸发源包括：

分配管，所述分配管配置为通过喷嘴喷射所述气相沉积材料；

蒸发坩埚，所述蒸发坩埚耦接至所述分配管并且配置为容纳所述气相沉积材料；

支撑件，所述支撑件可移动地安装在所述轨道上；和

致动器，所述致动器安装在所述支撑件上以升高和降低所述蒸发坩埚，并且

其中所述蒸发坩埚通过所述第二开口进入和离开。

6.如权利要求5所述的蒸发沉积系统，其中：

分隔壁设置在所述分配管和所述蒸发坩埚之间的每个所述移动腔室中；

所述分配管通过穿过所述分隔壁的连接部耦接至所述蒸发坩埚，和

闸阀设置在所述连接部中。

7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸发沉积系统，

其中所述连接腔室具有面向所述移动腔室的前表面的第二入口；和

其中第二接触构件设置在所述第二入口中，所述第二接触构件与所述移动腔室的所述前表面选择性地紧密接触。

8.如权利要求1至7中任一项所述的蒸发沉积系统，其中：

连接壳体在移动方向上分别耦接至每个所述移动腔室的两个端部；

所述多个移动腔室通过所述连接壳体连接以整体地移动；

所述连接腔室具有面向所述移动腔室和连接腔室的所述前表面的第二入口；和

第二接触构件设置在所述第二入口中，所述第二接触构件与所述移动腔室和所述连接壳体的所述前表面选择性地紧密接触。

9.如权利要求1至8中任一项所述的蒸发沉积系统，其中每个所述移动腔室的后表面具有第三开口，所述蒸发源的所述蒸发坩埚通过所述第三开口进出每个所述移动腔室；和第三开关阀，所述第三开关阀打开和关闭所述第三开口。

10.如权利要求1至9中任一项所述的蒸发沉积系统，其中所述真空腔室具有第四开口，所述真空腔室通过所述第四开口与所述连接腔室连通；和第四开关阀，所述第四开关阀打开和关闭所述第四开口。