[发明专利]通过源和掩模优化创建理想源光谱的方法

权利要求书

1.一种用于增加光刻系统的焦深的方法，所述方法包括：

提供光谱、掩模图案和光瞳设计，所述光谱、所述掩模图案和所述光瞳设计一起被配置成为所述光刻系统提供焦深；

迭代地改变所述光谱和所述掩模图案中的辅助特征，以提供增加所述焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案；以及

基于增加所述焦深的所述经修改的光谱和所述经修改的掩模图案来配置所述光刻系统的部件。

2.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括同时迭代地改变所述光谱、所述掩模图案和所述光瞳设计，以提供所述经修改的光谱、经修改的掩模图案和经修改的光瞳设计。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述光谱以一系列脉冲被提供，其中所述光谱中的至少一个峰中的中心波长每隔一个脉冲被进一步改变以偏移约500fm。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述光谱包括多色光谱。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述多色光谱包括具有峰间距的至少两个不同的峰。

6.根据权利要求4所述的方法，还包括通过光源输送与所述多色光谱相对应的光，其中多种颜色的光在不同时间被输送。

7.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括迭代地改变所述光谱中的峰的带宽。

8.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括迭代地改变所述光谱中的两个峰之间的峰间距。

9.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括改变所述掩模图案中的主要特征以增加所述焦深。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述主要特征包括边缘位置和掩模偏置位置，并且所述迭代改变还包括改变所述边缘位置或所述掩模偏置位置中的至少一项。

11.根据权利要求9所述的方法，其中两个掩模偏置位置能够相对于所述主要特征的中心被对称地改变。

12.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括改变所述掩模图案中的子分辨率辅助特征以增加所述焦深。

13.根据权利要求12所述的方法，所述迭代改变还包括通过改变所述子分辨率辅助特征的位置或宽度中的至少一项来改变所述子分辨率辅助特征。

14.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括：执行所述迭代改变至少直到过程窗口基于至少部分由剂量和曝光范围限定的面积被增大为止。

15.根据权利要求1所述的方法，所述迭代改变还包括执行所述改变至少直到所述焦深和曝光范围的乘积增加为止。