[发明专利]电光调制器及其用于三维成像的使用和制造方法在审
申请号: | 201980068935.4 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN112867962A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | C·A·埃贝斯;P·S·班克斯;C·S·图维伊 | 申请(专利权)人: | 恩耐公司 |
主分类号: | G02B30/00 | 分类号: | G02B30/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪贵 |
地址: | 美国华*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 调制器 及其 用于 三维 成像 使用 制造 方法 | ||
1.一种3D成像系统,包括:
Fabry-Perot腔,具有用于接收入射光的第一部分反射面和光从其出射的第二部分反射面;
电光材料,放置在所述Fabry-Perot腔内在所述第一部分反射表面与所述第二部分反射表面之间并且被配置为使得所述入射光中的至少一些穿过所述电光材料;
多个电极,被配置为在所述电光材料内产生电场;
与所述电极中的至少一者接触的电压驱动器,被配置为根据时间来调制所述电光材料内的电场,使得穿过所述电光材料的入射光根据预定调制波形被时间调制;和
光传感器,被配置为接收离开所述Fabry-Perot腔的所述第二部分反射表面的光并且将所述光转换为一个或多个电子信号。
2.根据权利要求1所述的3D成像系统,进一步包括:
处理器子系统,可操作地耦合到所述光传感器,所述处理器子系统被配置为基于所述电子信号生成3D图像数据。
3.根据权利要求2所述的成像系统,其中,处理器子系统还被配置为控制所述电压驱动器以调制电场。
4.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电极是被配置为纵向地激发电光材料的透明纵向电极。
5.根据权利要求4所述的3D成像系统,其中,所述透明纵向电极位于所述电光材料的相对侧,并且每个透明纵向电极被分割成多个电极。
6.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电极是被配置为横向地激发电光材料的横向电极。
7.根据权利要求6所述的3D成像系统,其中,所述横向电极位于所述电光材料的相对端,并且每个横向电极被分割成多个电极。
8.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电光材料选自由碘酸钾(KIO3)、GaAs、铌酸锂(LiNbO3)、钽酸锂(LiTaO3)和磷酸二氢钾(KD*P)组成的组。
9.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电光材料选自由聚偏二氟乙烯(PVDF或[C2H2F2]n)和偏二氟乙烯-三氟乙烯共聚物((CH2CF2)x(CHFCF2)(1-x),或(VDF)x(TRFE)(1-x)),其中,0≤x≤1。
10.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电光材料选自由聚合物、聚碳酸酯、改性聚碳酸酯、醋酸纤维素、聚乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯组成的组。
11.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电光材料是已经掺杂有发色团或发色团组合的聚合物材料,所述发色团或发色团组合已经通过施加极化场来对准。
12.根据权利要求1所述的3D成像系统,其中,所述电光材料选自由磷酸二氢钾、氢被氘取代的固溶体、其中x为0≤x≤1的KH2xD2(1-x)PO4、KD2P04的固溶体、以及为KDP或KD*P的同晶的材料的固溶体组成的组。
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