[发明专利]特别用于金属及/或陶瓷的硬化方法及设备

权利要求书

1.一种硬化以一膏体形成的一层的方法，其特征在于，所述方法包括：

以一膏体形成一层；

密封所述层于一密封罩内；

对所述密封罩施加一真空；以及

在一预定的期间内保持所述真空。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

通过以下步骤以一膏体形成所述层：

印刷一第一模具以定义所述产品的一层；

以一膏体材料填充所述第一模具，从而形成一第一层；

保持所述真空后移除所述真空；

移除所述密封；以及

印刷连续的其他层，每一层都在一相应的前一层上，对每一层重复所述印刷一模具，填充所述膏体，密封、施加一真空、移除所述真空及移除所述密封；从而形成一模制的分层产品。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法另包括：在形成所述第二模具之后及印刷所述第二模具之前使所述第一层平滑或平整；从而形成所述第二层于所述第一层的一完成表面上。

4.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述方法包括在密封之前以暖空气加热每一层。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法包括继续施加所述暖空气10至150秒，或大约30秒。

6.如权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述模具印刷材料具有一模具熔点，其低于所述铸造材料的一熔点。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述暖空气是在低于所述模具熔点的一温度。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述真空是一足够低的压力，以造成在所述暖空气的温度下的液体沸腾。

9.如前述权利要求任一项所述的方法，其特征在于，所述真空是一足够低的压力以从所述膏体中抽出残留液体。

10.如前述权利要求任一项所述的方法，其特征在于，所述真空包括0.01毫巴至100毫巴、0.1毫巴至25毫巴，或大约1毫巴的一绝对压力。

11.如前述权利要求任一项所述的方法，其特征在于，所述真空的时间介于10至150秒之间，或约30秒。

12.如权利要求2至11任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括对每一个至少一些的所述层进行数次所述密封、施加及移除所述真空，以及移除所述密封的一个循环。

13.如权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述方法包括对每一个至少一些的所述层进行数次所述加热、所述密封、施加及移除所述真空，以及移除所述密封的一个循环。

14.如权利要求12或13所述的方法，其特征在于，所述循环在一个别的层上重复直到达到一预定硬度。

15.如权利要求2至14任一项所述的方法，其特征在于，以一膏体材料填充所述模具包括使用一刮刀以扩展所述膏体材料进入所述模具。

16.如前述权利要求任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括在不同的层中使用至少两个不同的膏体材料。

17.如前述权利要求任一项所述的方法，其特征在于，所述密封包括关闭围绕各层的一真空罩。